预览加载中,请您耐心等待几秒...
1/8
2/8
3/8
4/8
5/8
6/8
7/8
8/8

在线预览结束,喜欢就下载吧,查找使用更方便

如果您无法下载资料,请参考说明:

1、部分资料下载需要金币,请确保您的账户上有足够的金币

2、已购买过的文档,再次下载不重复扣费

3、资料包下载后请先用软件解压,在使用对应软件打开

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106553121A(43)申请公布日2017.04.05(21)申请号201710011971.X(22)申请日2017.01.09(71)申请人中国工程物理研究院机械制造工艺研究所地址621999四川省绵阳市919信箱622分箱(72)发明人郑永成黄文何建国陈华罗清刘坤唐小会陈苓芷(74)专利代理机构中国工程物理研究院专利中心51210代理人翟长明韩志英(51)Int.Cl.B24B41/04(2006.01)B24B1/00(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图3页(54)发明名称一种全封闭式磁流变抛光头(57)摘要本发明提供了一种全封闭式磁流变抛光头。所述的全封闭式磁流变抛光头中的磁路通过螺钉安装在转轴的左端;轴承的内圈安装在转轴上,并通过螺母压紧;轴承的外圈安装在抛光轮底部的轴承孔中,并通过端盖压紧;带轮通过螺钉安装在端盖上,可以通过传动带来带动端盖和抛光轮转动;支座通过螺钉安装在转轴的右端;密封盖通过螺钉安装在抛光轮的口部;整个抛光头只通过支座安装在抛光机床上。本发明的抛光头总体结构简单,由密封盖和抛光轮把磁路完全封闭在抛光轮内,可有效防止抛光液或其他杂物进入抛光轮内腔,大大提高抛光头运行时的安全性和工艺稳定性。而且抛光头只需通过一个支座即可安装在机床上,简化了抛光头与机床的安装接口。CN106553121ACN106553121A权利要求书1/1页1.一种全封闭式磁流变抛光头,其特征在于:所述的抛光头含有密封盖(1)、磁路(2)、轴承(3)、抛光轮(4)、端盖(5)、螺母(6)、带轮(7)、支座(8)、转轴(9);其连接关系是,所述的轴承(3)的外圈安装在抛光轮(4)底部的轴承孔中,并通过端盖(5)压紧;转轴(9)安装在轴承(3)的内圈,并通过螺母(6)压紧;密封盖(1)通过螺钉固定安装在抛光轮(4)的口部,磁路(2)设置于密封盖(1)与抛光轮(4)构成的封闭空间内,并通过螺钉安装在转轴(9)的左端;带轮(7)通过螺钉固定安装在端盖(5)上,用于带动端盖(5)、抛光轮(4)的转动;支座(8)的一端通过螺钉固定安装在转轴(9)的右端,支座(8)的另一端外接于抛光机床上;所述的密封盖(1)、轴承(3)、抛光轮(4)、带轮(7)、转轴(9)为同轴线设置。2.根据权利要求1所述的全封闭式磁流变抛光头,其特征在于:其中“带轮(7)通过螺钉固定安装在端盖(5)上,用于带动端盖(5)、抛光轮(4)的转动”,采用如下内容替换:“带轮(7)通过螺钉安装在抛光轮(4)底部,用于带动抛光轮(4)的转动”。3.根据权利要求1所述的全封闭式磁流变抛光头,其特征在于:其中“带轮(7)通过螺钉固定安装在端盖(5)上,用于带动端盖(5)、抛光轮(4)的转动”,采用如下内容替换:“带轮(7)通过螺钉安装在密封盖(1)的侧面,用于带动密封盖(1)、抛光轮(4)的转动”。2CN106553121A说明书1/3页一种全封闭式磁流变抛光头技术领域[0001]本发明属于磁流变抛光装置技术领域,具体涉及一种全封闭式磁流变抛光头。背景技术[0002]磁流变抛光技术是近十多年来得以迅猛发展的一种确定性子口径抛光技术,它主要利用磁流变抛光液的可控流变特性进行加工,具有极高的加工精度、极高的收敛效率与极低的表面缺陷等显著特点,能够高效率、低成本地解决平面、球面,特别是非球面的超精密加工难题。磁流变抛光头是磁流变抛光工艺装备中的核心功能部件之一,其主要作用是保证磁流变抛光液在磁场作用下形成“柔性流变带”。[0003]目前对大口径光学元件的工程抛光设备中,目前报道的磁流变抛光头,都采用开放式,即磁路通过支撑结构从抛光轮的一侧或两侧的开口伸入抛光轮内部空腔中。如国防科学技术大学名称为《用于大口径非球面光学零件的磁流变抛光装置》的中国专利(专利公开号:CN101249626A);名称为《用于高陡度光学零件的磁流变抛光装置》的中国专利(专利公开号:CN101323098A);QED公司的名称为《用于基材的磁流变抛光的系统》的专利(授权公告号:CN102341216B),包括市场上商品化的QED系列化磁流变抛光机等用于确定性抛光的机床中配备的抛光头全部采用开放式结构。[0004]开放式磁流变抛光头结构设计与安装比较简单,但是使用中存在一些问题。使用时抛光轮是转动的,而磁路相对不动,因而两者之间会有间隙,由于抛光轮内磁场的作用,导磁性抛光液极容易进入抛光轮内部,而且抛光轮内部空间十分狭小,进入其中的抛光液很难清理干净,导磁的抛光液一旦进入对磁路中就会改变原来的磁路构成,造成抛光区磁场的变化,影响抛光工艺稳定性。另外,其他杂物,尤其是导磁性物质,进入抛光轮内部的可能性也很大,这些物质会卡在抛光轮与