质谱检漏仪结构.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107024325A(43)申请公布日2017.08.08(21)申请号201710412703.9(22)申请日2017.06.02(71)申请人中国电子科技集团公司第二十六研究所地址400060重庆市南岸区南坪花园路14号(72)发明人林震周毅罗俊谭荣柏胜朱朝轩(74)专利代理机构重庆乐泰知识产权代理事务所(普通合伙)50221代理人刘佳(51)Int.Cl.G01M3/20(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图3页(54)发明名称质谱检漏仪结构(57)摘要本发明提供一种质谱检漏仪结构，包括检漏仪本体、抽真空系统、抽真空管、平台和密封盒，所述平台设有通孔，所述密封盒无盖，所述密封盒盖合于所述通孔，所述抽真空管对准所述通孔，所述密封盒和抽真空管分别设于平台的两侧，所述密封盒的内部容置空间与半导体器件的外部轮廓相配合，所述密封盒内设有密封圈，所述密封圈设有支出部，所述支出部支出密封盒的盖合口。由于采用了上述技术方案，本发明具有结构合理的优点，所述密封盒的内部容置空间与半导体器件的外部轮廓相配合，尽可能缩短抽取真空的时间，提高氦质谱检漏仪的工作效率。CN107024325ACN107024325A权利要求书1/1页1.质谱检漏仪结构，其特征在于，包括检漏仪本体、抽真空系统、抽真空管、平台和密封盒，所述平台设有通孔，所述密封盒无盖，所述密封盒盖合于所述通孔，所述抽真空管对准所述通孔，所述密封盒和抽真空管分别设于平台的两侧，所述密封盒的内部容置空间与半导体器件的外部轮廓相配合，所述密封盒内设有密封圈，所述密封圈包括支出部，所述支出部支出密封盒的盖合口。2.如权利要求1所述的质谱检漏仪结构，其特征在于，所述支出部与平台的接触面设有硅脂涂层。3.如权利要求1所述的质谱检漏仪结构，其特征在于，所述支出部的高度是0.1-0.5cm。4.如权利要求3所述的质谱检漏仪结构，其特征在于，所述支出部的高度是0.1cm。5.如权利要求1所述的质谱检漏仪结构，其特征在于，所述密封盒包括内包围层、外包围层和底层，所述内包围层和外包围层均固定于底层，所述密封圈配合设于内包围层与外包围层之间。6.如权利要求1所述的质谱检漏仪结构，其特征在于，所述密封盒包括内密封盒和外密封盒，所述内密封盒和外密封盒均无盖，所述内密封盒置于外密封盒内，所述密封圈配合设于内密封盒外壁与外密封盒内壁之间。7.如权利要求5或6所述的质谱检漏仪结构，其特征在于，所述内包围层、外包围层和底层均由铝合金材料制成。8.如权利要求1所述的质谱检漏仪结构，其特征在于，所述密封盒为圆柱形盒，所述密封圈的横截面为圆环。9.如权利要求1所述的质谱检漏仪结构，其特征在于，所述质谱检漏仪为氦质谱检漏仪。2CN107024325A说明书1/4页质谱检漏仪结构技术领域[0001]本发明属于细检漏测试领域，特别是一种质谱检漏仪结构。背景技术[0002]目前国内外主要采取氦质谱检漏仪的方式进行检漏，在检漏之前必须将半导体器件置于一个固定体积且与氦质谱仪配套的可密封箱子中。在保持抽真空速率一定的情况下，达到1*109真空度的时间是确定的。相对来说，抽取真空的时间越短，将会提高氦质谱检漏仪的工作效率。发明内容[0003]本发明的目的在于提供一种结构合理的质谱检漏仪结构，所述密封盒的内部容置空间与半导体器件的外部轮廓相配合，尽可能缩短抽取真空的时间，提高氦质谱检漏仪的工作效率。[0004]本发明的目的是通过这样的技术方案实现的，它包括检漏仪本体、抽真空系统、抽真空管、平台和密封盒，所述平台设有通孔，所述密封盒无盖，所述密封盒盖合于所述通孔，所述抽真空管对准所述通孔，所述密封盒和抽真空管分别设于平台的两侧，所述密封盒的内部容置空间与半导体器件的外部轮廓相配合，所述密封盒内设有密封圈，所述密封圈包括支出部，所述支出部支出密封盒的盖合口。[0005]使用时，检查氦质谱检漏仪的接地线是否接地良好，开启“放空阀”，打开电源，等待设备进行自检，等待时间为20min，等到显示界面显示STAND-BY，则该设备处于待机状态。按氦质谱检漏仪上“Stop”键3秒钟，氦质谱检漏仪界面显示为VENTED，按“菜单(MENU)”键进入菜单选择界面。进入菜单后，确定氦质谱检漏仪的工作模式，首先按“模式”键，然后选择“自动漏率测试”(半导体器件检漏)，选择完毕后按“OK”键确认。[0006]根据半导体器件大小选择合适大小的密封盒，密封盒刚好覆盖整个半导体器件，密封盒放置于平台上，盖合于平台上的通孔。按下氦质谱检漏仪上“Start”键，氦质谱检漏仪分子泵启动，抽真空系统启动，抽真空管通过通孔对密封盒抽真空，密封盒内部受到负压吸引，使密封圈的支出部紧紧贴紧于平台，密封