用于稀疏角度采样的断层摄影成像装置和方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107249465A(43)申请公布日2017.10.13(21)申请号201680012102.2(74)专利代理机构永新专利商标代理有限公司(22)申请日2016.12.1272002代理人蔡洪贵(30)优先权数据15201228.22015.12.18EP(51)Int.Cl.A61B6/02(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日A61B6/03(2006.01)2017.08.25A61B6/00(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据G06T11/00(2006.01)PCT/EP2016/0805392016.12.12(87)PCT国际申请的公布数据WO2017/102607EN2017.06.22(71)申请人皇家飞利浦有限公司地址荷兰艾恩德霍芬(72)发明人M·格拉斯T·克勒权利要求书2页说明书8页附图3页(54)发明名称用于稀疏角度采样的断层摄影成像装置和方法(57)摘要本发明涉及一种断层摄影成像装置(1)。该装置(1)包括辐射探测器(3)，该辐射探测器用于测量穿过待成像对象行进的辐射，该辐射探测器(3)被配置成测量仅在绕轴线(z)的弯曲轨迹上的多个选定采样位置处的辐射。规划单元(12)被配置成基于对象(21)在基本垂直于所述轴线(z)的平面(x-y)中的估计轮廓(44、53)来确定选定采样位置。此外，本发明涉及用于操作该装置(1)的方法。本发明尤其适用于计算机断层摄影成像中。CN107249465ACN107249465A权利要求书1/2页1.一种断层摄影成像装置(1)，包括：辐射探测器(3)，所述辐射探测器用于测量穿过待成像的对象(21)行进的辐射，所述辐射探测器(3)被配置成测量沿着仅在绕轴线(z)的弯曲轨迹上的多个选定采样位置处的至少一条射线路径(42a；42b；52a；52b)行进的辐射；以及规划单元(12)，所述规划单元被配置成基于所述对象(21)在基本垂直于所述轴线(z)的平面(x-y)中的估计轮廓(44；53)来确定所述选定采样位置，以及按如下方式确定所述选定采样位置，即，使得沿着所述对象(21)在相邻角度采样位置处的相同的所述至少一条射线路径(42a、42b；52a、52b)和轮廓(44；53)的交叉点之间的轮廓(44；53)的路径(41；51)具有大约相等的长度(L；L’)。2.根据权利要求1所述的断层摄影成像装置(1)，其中，所述断层摄影成像装置还包括用于发射辐射的辐射源(2)，所述辐射源(2)和所述辐射探测器(3)能够绕所述对象(21)移动，且所述断层摄影成像装置包括控制单元(10)，所述控制单元被配置成控制所述辐射源(2)以仅在所述辐射探测器(3)被定位于所述选定采样位置处时发射辐射。3.根据权利要求2所述的断层摄影成像装置(1)，其中，所述辐射包括x射线辐射，且所述辐射探测器(3)获取所述对象(21)的投影值。4.根据权利要求1所述的断层摄影成像装置(1)，其中，所述规划单元(12)被配置成确定在相邻选定采样位置处的所述射线路径(42a、42b)之间的二等分线(43)，以及确定所述射线路径(42a、42b)之间的直线连接路径(41)，所述连接路径(41)与所述二等分线(43)相交并基本垂直于所述二等分线(43)，且所述规划单元(12)被配置成以如下方式确定所述选定采样位置，即，使得用于相邻选定采样位置的连接路径(41)具有基本相等的长度(L)。5.根据权利要求4所述的断层摄影成像装置(1)，其中，所述连接路径(41)被选择成使得它经过所述二等分线(43)和所述对象(21)的轮廓(44)之间的交叉点。6.根据权利要求4所述的断层摄影成像装置(1)，其中，所述连接路径(41)被选择成使得它在第一点和第二点之间与所述二等分线(43)相交，所述第一点和所述第二点中的每个对应于所述二等分线(43)和一直线(45a；45b)之间的交叉点，所述直线基本垂直于所述二等分线(43)并在所述射线路径(42a；42b)中的一条射线路径和所述对象(21)的轮廓(44)之间的交叉点处与所述一条射线路径(42a；42b)相交。7.根据权利要求1所述的断层摄影成像装置(1)，其中，所述规划单元(12)被配置成以如下方式确定所述选定采样位置，即，使得在相邻选定采样位置处的所述射线路径(52a；52b)和所述对象(21)的轮廓(53)的交叉点之间的直线路径(51)具有大约相等的长度(L’)。8.根据权利要求2所述的断层摄影成像装置(1)，其中，所述断层摄影成像装置还被配置成执行计算机断层摄影扫描以基于在扫描期间由所述辐射探测器(3)配准的辐射来生成所述对象的三维图像，其中所述规划单元(12)被配置成基于所述图像