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在真空室内表面形成非蒸发吸气剂膜(TiZrV)抽气层的特性研究的中期报告
这里是关于在真空室内表面形成非蒸发吸气剂膜(TiZrV)抽气层的特性研究的中期报告：
研究目的：
本研究旨在探究在真空室内表面形成非蒸发吸气剂膜(TiZrV)抽气层的特性，为高性能真空系统的制备提供技术支持。
研究方法：
本研究采用物理气相沉积技术，在硅基底板上制备Ti-Zr-V合金薄膜，并进行表面处理，形成非蒸发吸气剂层，采用扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和拉曼光谱等方法进行表征分析，探究其物理和化学特性。
研究进展：
目前已经成功制备并表征出TiZrV吸气剂层，通过SEM观察，其表面形貌均匀，无结晶缺陷；AFM研究表明，其表面粗糙度较低，约为0.2nm；拉曼光谱分析得出，TiZrV晶格存在着明显的应力弛豫现象。
下一步工作：
我们将继续进行气体吸附性能测试和真空环境透气筛选等进一步研究，以获得更全面的抽气层性能数据，并不断完善和优化研究方法，为高性能真空系统的制备提供技术保障。