用于清洗机的摇摆驱动机构的清洗机构及清洗机.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107583902A(43)申请公布日2018.01.16(21)申请号201710743851.9(22)申请日2017.08.25(71)申请人武汉华星光电技术有限公司地址430070湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋(72)发明人尹洪祥(74)专利代理机构深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304代理人孙伟峰顾楠楠(51)Int.Cl.B08B3/02(2006.01)B08B9/08(2006.01)B08B9/093(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图2页(54)发明名称用于清洗机的摇摆驱动机构的清洗机构及清洗机(57)摘要本发明提供了一种用于清洗机的摇摆驱动机构的清洗机构，包括设于摇摆驱动机构的腔室上的喷嘴、与喷嘴连接的进水端、设于摇摆驱动机构下端的排水口，所述喷嘴与摇摆驱动机构相对设置，所述进水端设于腔室外。本发明还提供了一种清洗机，包括所述的用于清洗机的摇摆驱动机构的清洗机构。与现有技术相比，通过在摇摆驱动机构中设置清洗机构，通过喷嘴对凸轮盘进行清洗，从而能够及时的将附着在凸轮盘上的结晶物清理掉，防止对凸轮盘等部件的侵蚀，延长使用寿命；采用自动清洗，从而节省清洗成本；而且也能够避免结晶再次附着在基板上，提供产品的良率。CN107583902ACN107583902A权利要求书1/1页1.一种用于清洗机的摇摆驱动机构的清洗机构，包括设于摇摆驱动机构的腔室(1)上的喷嘴(2)、与喷嘴(2)连接的进水端(3)、设于摇摆驱动机构下端的排水口(4)，所述喷嘴(2)与摇摆驱动机构相对设置，所述进水端(3)设于腔室(1)外。2.根据权利要求1所述的用于清洗机的摇摆驱动机构的清洗机构，其特征在于：所述腔室(1)的下端面为斜面。3.根据权利要求2所述的用于清洗机的摇摆驱动机构的清洗机构，其特征在于：所述排水口(4)设置在靠近斜面的最低点处。4.根据权利要求3所述的用于清洗机的摇摆驱动机构的清洗机构，其特征在于：所述斜面上设有竖直设置的挡水板(5)，挡水板(5)位于排水口(4)与斜面的最低点之间。5.根据权利要求4所述的用于清洗机的摇摆驱动机构的清洗机构，其特征在于：所述喷嘴(2)设于与摇摆驱动机构的凸轮盘位置相对应处。6.根据权利要求1所述的用于清洗机的摇摆驱动机构的清洗机构，其特征在于：所述进水端(3)为具有外螺纹的螺纹接头。7.根据权利要求1所述的用于清洗机的摇摆驱动机构的清洗机构，其特征在于：所述腔室(1)的下端面的外侧表面上位于排水口(4)处设有与排水口(4)连接的排水端(6)。8.根据权利要求7所述用于清洗机的摇摆驱动机构的清洗机构，其特征在于：所述排水端(6)为具有外螺纹的螺纹接头。9.一种清洗机，包括设于基板输送机构一侧的腔室(1)，所述腔室(1)内设有摇摆驱动机构(9)，所述摇摆驱动机构(9)的摇臂(91)从腔室(1)面向基板输送机构的一侧壁伸出，其特征在于：还包括如权利要求1-8任意一项所述的用于清洗机的摇摆驱动机构的清洗机构。10.根据权利要求9所述的清洗机，其特征在于：所述斜面为从腔室(1)远离基板输送机构的一侧朝基板输送机构一侧高度依次递减。2CN107583902A说明书1/3页用于清洗机的摇摆驱动机构的清洗机构及清洗机技术领域[0001]本发明涉及一种显示面板技术，特别是一种用于清洗机的摇摆驱动机构的清洗机构及清洗机。背景技术[0002]在LTPS(LowTemperaturePoly-silicon，低温多晶硅)生产制程中，ELA(激光退火)/CVD(化学气相沉积)/PVD(物理气相沉积)的制程前会对基板进行成膜前的清洗，这样就需要增加成膜前清洗设备，因清洗设备机构的成膜和结晶前处理单元(HFunit)存在用于驱动喷嘴管道的摇摆驱动机构(PipeOSCDriver)，此机构因原厂设计缺陷导致驱动部件频繁存在结晶腐蚀现象，导致部件容易损坏，结晶物飘入设备会影响产品良率；而且还需要经常对摇摆驱动机构的部件进行更换，从而提高了使用成本。发明内容[0003]为克服现有技术的不足，本发明提供一种用于清洗机的摇摆驱动机构的清洗机构及清洗机，实现摇摆驱动机构能够自动清洁，节省清洁成本，延长部件寿命。[0004]本发明提供了一种用于清洗机的摇摆驱动机构的清洗机构，包括设于摇摆驱动机构的腔室上的喷嘴、与喷嘴连接的进水端、设于摇摆驱动机构下端的排水口，所述喷嘴与摇摆驱动机构相对设置，所述进水端设于腔室外。[0005]进一步地，所述腔室的下端面为斜面。[0006]进一步地，所述排水口设置在靠近斜面的最低点处。[0007]进一步地，所述斜面上设有竖直设置的挡水板，挡水板位于排水口与斜面的最低点之间。[0008]进一步地，所