一种双面研磨机.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107584408A(43)申请公布日2018.01.16(21)申请号201711007669.3(22)申请日2017.10.25(71)申请人德清凯晶光电科技有限公司地址313000浙江省湖州市德清县武康镇长虹东街345号3号厂房南门(72)发明人沈斌斌(74)专利代理机构杭州千克知识产权代理有限公司33246代理人赵卫康(51)Int.Cl.B24B37/08(2012.01)B24B37/28(2012.01)权利要求书1页说明书3页附图3页(54)发明名称一种双面研磨机(57)摘要本发明涉及晶片研磨领域，具体涉及一种双面研磨机，包括：底座台、上压台和游星轮，所述底座台顶部设置有研磨腔，所述研磨腔外圈设置有内齿齿轮，所述研磨腔底部设置有底部研磨片，所述研磨腔中心设置有驱动齿轮，所述上压台包括，中心驱动盘、驱动电机和上研磨片；所述游星轮包括，同心设置的基体齿盘和定位盘，所述基体齿盘外圈设置有齿，所述基体齿盘内部设置有矩形孔，所述矩形孔内设置有定位滑块，所述定位盘包括活动轮和卡位环；所述定位滑块通过连杆与所述活动轮相连，所述矩形孔的中心线穿过所述基体齿盘的圆心，所述定位滑块在所述连杆作用下沿所述矩形孔的中心线方向靠近或远离所述基体齿盘圆心移动。CN107584408ACN107584408A权利要求书1/1页1.一种双面研磨机，其特征在于，包括：底座台（1）、上压台（2）和游星轮（3），所述底座台（1）顶部设置有研磨腔（11），所述研磨腔（11）外圈设置有内齿齿轮（12），所述研磨腔（11）底部设置有底部研磨片（13），所述研磨腔（11）中心设置有驱动齿轮（14），所述上压台（2）包括，中心驱动盘（21）、驱动电机（22）和上研磨片（23），所述驱动电机（22）与所述中心驱动盘（21）相连，所述中心驱动盘（21）与所述驱动齿轮（14）相装配，平面方向上所述游星轮（3）设置在所述驱动齿轮（14）与所述内齿齿轮（12）之间，高度方向上所述游星轮（3）设置在所述上研磨片（23）与所述底部研磨片（13）之间；所述游星轮（3）包括，同心设置的基体齿盘（31）和定位盘（32），所述基体齿盘（31）外圈设置有齿，所述基体齿盘（31）内部设置有矩形孔（311），所述矩形孔（311）内设置有定位滑块（312），所述定位盘（32）包括活动轮（321）和卡位环（322）；所述定位滑块（312）通过连杆（313）与所述活动轮（321）相连，所述矩形孔（311）的中心线穿过所述基体齿盘（31）的圆心，所述定位滑块（312）在所述连杆（313）作用下沿所述矩形孔（311）的中心线方向靠近或远离所述基体齿盘（31）圆心移动。2.根据权利要求1所述的一种双面研磨机，其特征在于，所述定位滑块（312）包括，面层（3121）和底层（3122），所述面层（3121）和底层（3122）之间设置有滑槽（3123），所述矩形孔（311）的边框扣于所述滑槽（3123）内。3.根据权利要求2所述的一种双面研磨机，其特征在于，所述基体齿盘（31）包括正反两面，所述面层（3121）以及所述卡位环（322）设置在所述基体齿盘（31）的正面，所述底层（3122）和所述连杆（313）设置在所述基体齿盘（31）的反面，所述活动轮（321）贯穿所述基体齿盘（31）。4.根据权利要求3所述的一种双面研磨机，其特征在于，所述定位滑块（312）通过连杆插孔（3124）与所述连杆（313）的一端相铰接，所述底层（3122）与所述连杆（313）铰接处设置有连杆头活动槽（3125），所述连杆头活动槽（3125）朝向所述定位滑块（312）内侧凹陷，使得所述连杆（313）表面高度低于或等于所述底层（3122）的表面高度。5.根据权利要求4所述的一种双面研磨机，其特征在于，所述连杆（313）的一端铰接与所述连杆插孔（3124）内，另一端铰接与设置在所述活动轮（321）上的连接孔（3213）内。6.根据权利要求5所述的一种双面研磨机，其特征在于，所述连杆插孔（3124）设置在所述定位滑块（312）的中线上。7.根据权利要求1所述的一种双面研磨机，其特征在于，所述卡位环（322）与所述基体齿盘（31）固定连接，其内圈设置有内棘齿（3221）；所述活动轮（321）套设在所述卡位环（322）内，其内部或表面设置有，棘爪（3211）和弹片（3212），所述内棘齿（3221）包括，阻挡面（32211）和圆弧滑动面（32212），所述棘爪（3211）包括，顶止面（32111）和转动部（32112）。8.根据权利要求3所述的一种双面研磨机，其特征在于，所述基体齿盘（31）反面设有用于对所述连杆（313）进行限位的限位台（314）。9.根据