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几种不同结构典型半导体的光电性质的模拟研究的开题报告 题目:几种不同结构典型半导体的光电性质的模拟研究 摘要: 半导体是一种电导率介于导体和绝缘体之间的材料。由于其独特的性质,半导体在现代电子和光电领域有着广泛的应用。本文将研究几种不同结构的典型半导体及其光电性质。利用数值模拟方法,将探究不同结构对半导体的光吸收、电子输运和发光等关键性质的影响,为进一步半导体器件的设计和优化提供理论依据。 1.研究目的 本文的研究目的是探究几种不同结构的典型半导体的光电性质,并分析不同结构对半导体的性质影响。通过数值模拟研究,为半导体器件的设计和优化提供理论依据。 2.研究对象 本文将研究几种不同结构的典型半导体,包括:单晶硅、氮化镓、磷化铟和硒化锌。 3.研究方法 本文将采用数值模拟的方法,通过搭建适合的模型,运用现代材料科学研究中的理论计算和模拟手段,如密度泛函理论(DFT)、量子力学计算等,探究不同结构对半导体的光吸收、电子输运和发光等关键性质的影响。通过对结果的刻画完整、准确地描述各种材料在相应条件下的光电学性质。 4.研究内容和进度安排 本研究的主要内容将包括以下几个方面: (1)半导体结构特点与模型建立(1-2周) 本部分将主要介绍几种不同结构的典型半导体的结构特点,并构建相应的电子结构模型。 (2)光吸收性质的数值模拟(2-3周) 通过密度泛函理论计算,探究不同结构对半导体的光吸收性质的影响,为后续研究打下基础。 (3)电子输运特性的数值模拟(2-3周) 通过模拟计算电子在不同结构的半导体中的输运情况,探究不同结构对半导体电子输运行为的影响。 (4)发光特性的数值模拟(2-3周) 通过量子力学计算,探究不同结构半导体中的激子的形成和发光特性,分析不同结构对发光特性的影响。 (5)结果分析和讨论(1周) 通过对以上模拟结果进行分析和讨论,深入理解不同结构对半导体光电性质的影响。 5.研究意义 本文的研究将揭示不同结构对典型半导体光电性质的影响,为半导体器件的设计和优化提供理论依据,进一步促进半导体领域的发展,具有重要的理论意义和实践价值。 6.研究结果和成果 本研究预计可以得到几种不同结构半导体的光电性质的定量分析结果,深入挖掘几种不同结构对半导体光电性质的影响规律,并提供了半导体器件设计和优化的理论依据,有望在理论和实践领域都有新的突破,为半导体领域的进一步研究提供参考。 7.参考文献 (1)ZhaiTF,ZhangQ,BaoHQ,etal.Opticalpropertiesofindiumphosphidenanowires[J].JournalofCrystalGrowth,2008,310(9):2038-2043. (2)ZhangJ,ZhangL,ZhaoY,etal.EffectsofsurfacestatesonGaNnanowirephotoluminescenceandphotovoltaiccellperformance[J].JournalofAppliedPhysics,2010,107(3):034308-034308. (3)TanM,CaoY,TangJ,etal.EffectsofsubstratetemperatureonthegrowthandopticalpropertyofZnSenanowiresgrownbythermalevaporation[J].ThinSolidFilms,2010,518(10):2674-2678. (4)HumphreysCJ,BlakemoreJS.AtomicstructureofSi(100)surfaces(2×1):Asurfaceofhighsymmetryandlowsurfaceenergy[J].PhysicalReviewLetters,1984,52(12):1042-1045.