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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107650326A(43)申请公布日2018.02.02(21)申请号201710813010.0(22)申请日2017.09.11(71)申请人歌尔股份有限公司地址261031山东省潍坊市高新技术开发区东方路268号(72)发明人张法亮张孟军毛咏发刘利强(74)专利代理机构北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙)11442代理人王昭智马佑平(51)Int.Cl.B29C45/14(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图1页(54)发明名称基材和塑料的结合件及其制备方法(57)摘要本发明公开了一种基材和塑料的结合件。该基材和塑料的结合件其特征在于,包括基体和塑料材料,所述塑料材料注塑形成在所述基体上,所述基体被配置为经过激光刻蚀处理在表面形成有微米级凹凸面,所述微米级凹凸面由分布的凹陷结构构成,所述微米级凹凸面的轮廓平均宽度RSm为的10-200μm,平均峰谷深度Rz为1-500μm,所述塑料材料嵌于所述凹陷结构内。本发明的技术效果在于,能够提高连接在基材上的塑料材料与基材的结合作用力。CN107650326ACN107650326A权利要求书1/1页1.一种基材和塑料的结合件,其特征在于,包括基体和塑料材料,所述塑料材料注塑形成在所述基体上,所述基体被配置为经过激光刻蚀处理在表面形成有微米级凹凸面,所述微米级凹凸面由分布的凹陷结构构成,所述微米级凹凸面的轮廓平均宽度RSm为的10-200μm,平均峰谷深度Rz为1-500μm,所述塑料材料嵌于所述凹陷结构内。2.根据权利要求1所述的基材和塑料的结合件,其特征在于,所述基体由陶瓷、玻璃或金属制成。3.根据权利要求1所述的基材和塑料的结合件,其特征在于,所述凹陷结构经激光刻蚀处理形成在所述基体的表面,所述凹陷结构为圆形结构、椭圆结构、多角形结构、条形结构、折形结构或曲形结构中的至少一种。4.根据权利要求1所述的基材和塑料的结合件,其特征在于,所述凹陷结构在垂直于基体表面的方向上的截面形状为倒三角形、弓形、U形、四边形、圆形或椭圆形中的至少一种。5.根据权利要求1所述的基材和塑料的结合件,其特征在于,所述凹陷结构的底面和侧壁上形成有纳米级微孔和/或凹坑。6.根据权利要求1所述的基材和塑料的结合件,其特征在于,所述塑料材料包括聚苯硫醚塑料、聚对苯二甲酸丁二醇酯塑料、聚酰胺塑料或聚对苯二甲酸乙二醇酯塑料中的至少一种。7.根据权利要求1所述的基材和塑料的结合件,其特征在于,所述塑料材料中掺有填充材料,所述填充材料包括尼龙纤维、碳纤维、玻璃纤维、芳香族聚酰胺纤维、碳酸钙、碳酸镁、二氧化硅及黏土中的至少一种。8.根据权利要求7所述的基材和塑料的结合件,其特征在于,所述填充材料在所述塑料材料中的质量百分比为5-40%。9.一种基材和塑料结合件的制备方法,其特征在于,包括:提供预定形状的基材;在基材的表面实施激光刻蚀处理以形成凹陷结构,所述凹陷结构在基材的表面分布形成微米级凹凸面,所述微米级凹凸面的轮廓平均宽度RSm为的10-200μm,平均峰谷深度Rz为1-500μm;在基材上形成有微米级凹凸面的区域注塑固定塑料材料。10.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述激光刻蚀处理的参数为:激光加工表面微纳米结构激光器的功率为10-100W,波长为325nm-3370nm,脉宽为1fs-1064nm频率10-100KHz。11.根据权利要求9所述的制备方法,其特征在于,所述基材的材料为陶瓷、玻璃或金属中的一种。2CN107650326A说明书1/5页基材和塑料的结合件及其制备方法技术领域[0001]本发明属于材料加工技术领域,具体地,涉及一种基材和塑料的结合件及其制备方法。背景技术[0002]在精密加工技术中,经常遇到需要将金属、玻璃、陶瓷等部件和工程塑料牢固结合在一起的问题。传统的解决方案多为胶水粘结、铆钉、倒扣、孔洞方式与工程塑料结合,上述方式均存在一定的缺陷,增加了设计复杂度、环保风险及制造成本。近年来随着电子通讯行业的发展,越来越多的电子产品采用金属等材料与塑料复合的形式构成产品结构,同样面临上述问题。[0003]目前,纳米注塑技术具有结合力高、能实现无缝结合的特点,已经在铝合金、镁合金领域得到广泛应用。然而铝、镁合金要达到纳米注塑的要求,需要经过特殊的表面成孔处理。成功过程包括:一、水溶液浸渍,利用碱性水溶液蚀刻出细微表面,在浸渍的同时发生胺类化合物分子向金属表面的吸附;二、阳极氧化处理,使金属表面形成多孔的氧化膜。上述两种方式均需用到有毒有害胺类化合物,不利于技术推广使用;无论上述浸渍或阳极氧化,整个构件均需腐蚀或氧化,造成构件不必要腐蚀和工艺流程复杂,导致NMT技术制程较长,生产效率较低。并且