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C波段GaN基PAMMIC的研制的中期报告 本次中期报告是针对C波段(4-8GHz)GaN基功率放大器(PA)MMIC研制项目的进展情况进行汇报。 1.研究背景 GaN材料具有高功率、高频率、高温度稳定性等优势,被广泛应用于射频功率放大器领域。而C波段频段在雷达、通信等领域有着重要的应用,因此研发C波段GaN基PAMMIC具有重要意义。 2.研究内容 本研究采用的GaNHEMT器件为离子束刻蚀工艺制备,器件特性测试表明其具有良好的高频性能和功率饱和特性。研究团队设计了一款C波段单端结构的GaNHEMTPA,采用ClassAB工作方式,使用微带线耦合和负载匹配网络实现了50Ω匹配。经过优化设计和模拟仿真,该PA在4-8GHz频带内的增益高达15dB,具有26dBm的输出功率和50%的直流-射频(DC-RF)转换效率。为了方便制造,研究团队将该PA布局设计成完全的金属化结构,避免了器件的漏电和保护层的损坏。 3.研究进展 经过前期的器件制备、特性测试和前置放大器的设计,目前已完成了C波段GaN基PAMMIC的芯片制作和测试。制作的芯片尺寸为2mm×1.5mm,工艺为金属组合封装。在测试台上,该PA达到了预期的性能指标,增益达到了14dB,输出功率为27dBm,DC-RF转换效率高达40%。但在频率范围内的参数分布和稳定度方面存在一些问题,将需要进一步优化设计和调整工艺。 4.展望 在未来的研究中,研究团队将继续优化设计和改进工艺,以提高C波段GaN基PAMMIC的性能和稳定性。同时,研究团队也会探索更多与应用相关的研究方向,为实际应用提供更好的解决方案。