深亚微米CMOS工艺下高速流水线ADC的研究与设计的任务书.docx
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基于深亚微米CMOS工艺的静电防护器件研究摘要:静电问题是微电子器件可靠性研究中的重要问题之一,特别是在深亚微米CMOS工艺下,静电放电问题越来越突出。因此,本文基于深亚微米CMOS工艺的静电防护器件研究,综述了静电防护技术的发展历程、静电放电的机理、静电放电损伤及其印刷电路板和集成电路的静电防护方法,探讨了深亚微米CMOS工艺下电路中静电放电的问题,分析了常用的静电防护方法及其优缺点,介绍了静电防护器件的类型、设计及其在深亚微米CMOS工艺中的应用。关键词:静电放电;静电防护;深亚微米CMOS工艺;静电