旋转清洗设备、用于旋转清洗设备的检测设备以及检测方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107999457A(43)申请公布日2018.05.08(21)申请号201711219905.8(22)申请日2017.11.29(71)申请人德淮半导体有限公司地址223300江苏省淮安市淮阴区长江东路599号(72)发明人陆从喜林宗贤吴龙江辛君(74)专利代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038代理人金晓(51)Int.Cl.B08B3/08(2006.01)B08B3/10(2006.01)B08B3/12(2006.01)B08B13/00(2006.01)权利要求书2页说明书9页附图4页(54)发明名称旋转清洗设备、用于旋转清洗设备的检测设备以及检测方法(57)摘要本公开涉及一种旋转清洗设备以及用于旋转清洗设备的检测设备和检测方法。该旋转清洗设备包括：壳体；惰轮，设置在壳体内；以及检测设备，包括：信号源、被配置成检测来自信号源的信号的检测器以及被配置为包括至少一条传导路径的传导件，其中，信号源和检测器设置于相对于旋转清洗设备的预定位置处，传导件的至少一部分设置于惰轮中，随着惰轮的旋转，传导件间隔性地将信号从信号源传导至检测器。CN107999457ACN107999457A权利要求书1/2页1.一种旋转清洗设备，其特征在于，包括：壳体；惰轮，设置在所述壳体内；以及检测设备，所述检测设备包括：信号源，检测器，被配置成检测来自所述信号源的信号，以及传导件，被配置为包括至少一条传导路径，其中，所述信号源和所述检测器设置于相对于所述旋转清洗设备的预定位置处，所述传导件的至少一部分设置于所述惰轮中，随着所述惰轮的旋转，所述传导件间隔性地将所述信号从所述信号源传导至所述检测器。2.如权利要求1所述的旋转清洗设备，其特征在于，所述检测设备基于检测到所述信号的时间间隔来确定所述惰轮的旋转速度。3.如权利要求1所述的旋转清洗设备，其特征在于，所述信号是光信号。4.如权利要1所述的旋转清洗设备，其特征在于，所述传导件被配置为包括多条传导路径，其中所述多条传导路径被设置成随着所述惰轮旋转依次传导所述信号。5.如权利要求1-4中任意一项所述的旋转清洗设备，其特征在于，所述信号源和所述检测器中至少一个设置于所述旋转清洗设备的壳体的外部，并经由已密封的透明窗口面向所述壳体内。6.如权利要求1-4中任意一项所述的旋转清洗设备，其特征在于，所述惰轮的表面上设置有间隔分布的凹槽，以及所述传导路径穿过所述凹槽使得所述凹槽构成所述传导路径的一部分，或者所述传导路径的一端设置在所述凹槽中。7.如权利要求1-4中任意一项所述的旋转清洗设备，其特征在于，所述传导件限定直线型传导路径。8.如权利要求1-4中任意一项所述的旋转清洗设备，其特征在于，所述传导件限定具有折点的折线型传导路径，并且所述传导件还包括设置在所述折点处的信号转向元件。9.一种用于旋转清洗设备的检测设备，其特征在于，包括：信号源；检测器，被配置成检测来自所述信号源的信号；以及传导件，被配置为包括至少一条传导路径，其中，所述信号源和所述检测器设置于相对于所述旋转清洗设备的预定位置处，所述传导件的至少一部分设置于所述旋转清洗设备的惰轮中，随着所述惰轮的旋转，所述传导件间隔性地将所述信号从所述信号源传导至所述检测器。10.一种用于检测旋转清洗设备中的惰轮的旋转速度的方法，其特征在于，包括：在相对于所述旋转清洗设备的预定位置处设置信号源和检测器；在所述惰轮中设置传导件；随着所述惰轮旋转，使所述传导件间隔性地将所述信号从所述信号源传导至所述检测2CN107999457A权利要求书2/2页器。3CN107999457A说明书1/9页旋转清洗设备、用于旋转清洗设备的检测设备以及检测方法技术领域[0001]本公开涉及旋转清洗设备，具体来说，涉及一种旋转清洗设备，以及用于旋转清洗设备的检测设备以及检测方法。背景技术[0002]在许多制造工业中，都需要对制品的表面进行清洗。例如，在半导体装置的制造中，经过使用化学机械研磨对制品(诸如晶圆)进行平坦化后，制品表面上产生大量杂质，于是，进行清洗处理变得必不可少。近年来，随着半导体装置的显著高集成化，即使极微量的杂质所造成的污染，对于装置的性能以及对制品的良率也会产生较大影响，因此，对清洗效果的要求也显著提高。[0003]旋转清洗设备能够在清洗制品的同时旋转所清洗制品，实现对制品的全局清洗效果。例如，在使用超声波进行清洗时，由于超声波发生器一般设置于设备的底部，导致超声波产生的气泡仅能与制品邻近设备底部的一部分接触，清洗范围通常是有限的。通过旋转制品使超声波产生的气泡充分与制品表面的各个部分接触，清洗能够更加全面、充分。发明内容[0004]本公开的一个目的是提供一种用于旋转清洗