常压等离子镀膜装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108342713A(43)申请公布日2018.07.31(21)申请号201710161397.6H05H1/34(2006.01)(22)申请日2017.03.17(30)优先权数据1061030332017.01.25TW(71)申请人馗鼎奈米科技股份有限公司地址中国台湾台南市永康区亚太工业区中正路279巷21弄59号(72)发明人王齐中徐逸明洪昭南(74)专利代理机构北京律诚同业知识产权代理有限公司11006代理人徐金国(51)Int.Cl.C23C16/455(2006.01)C23C16/54(2006.01)C23C16/50(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图2页(54)发明名称常压等离子镀膜装置(57)摘要一种常压等离子镀膜装置。此常压等离子镀膜装置包含常压等离子产生器以及至少一前驱物进料治具。常压等离子产生器包含管状电极以及喷嘴。喷嘴设于管状电极下，且配置以喷射等离子。喷嘴具有喷口以及平滑轮廓，且此平滑轮廓的外径由管状电极往喷口渐缩。至少一前驱物进料治具邻设于管状电极与喷嘴，且配置以朝喷嘴的平滑轮廓喷射镀膜前驱物，以使镀膜前驱物沿着平滑轮廓流至喷口前与常压等离子混合喷涂成膜。利用喷嘴的平滑轮廓设计，搭配等离子气流在喷口附近所产生的吸力，可有效提升镀膜前驱物与等离子的混合均匀度，提升镀膜品质，更可改善镀膜前驱物散逸于大气而造成浪费的问题。CN108342713ACN108342713A权利要求书1/1页1.一种常压等离子镀膜装置，其特征在于，包含：一常压等离子产生器，包含：一管状电极；以及一喷嘴，设于该管状电极下，且配置以喷射一等离子，其中该喷嘴具有一喷口以及一平滑轮廓，且该平滑轮廓的一外径由该管状电极往该喷口渐缩；以及至少一前驱物进料治具，邻设于该管状电极与该喷嘴，且配置以朝该喷嘴的该平滑轮廓喷射一镀膜前驱物，以使该镀膜前驱物沿着该平滑轮廓流至该喷口前。2.根据权利要求1所述的常压等离子镀膜装置，其特征在于，该常压等离子产生器还包含一棒状电极设于该管状电极内。3.根据权利要求1所述的常压等离子镀膜装置，其特征在于，该平滑轮廓为一流线形轮廓。4.根据权利要求1所述的常压等离子镀膜装置，其特征在于，该至少一前驱物进料治具包含多个前驱物进料治具，所述多个前驱物进料治具围设于该喷嘴及/或该管状电极外。5.根据权利要求1所述的常压等离子镀膜装置，其特征在于，所述多个前驱物进料治具之间具有相同间距。6.根据权利要求1所述的常压等离子镀膜装置，其特征在于，该至少一前驱物进料治具是一环状前驱物进料治具，该环状前驱物进料治具环设于该喷嘴及/或该管状电极外。7.根据权利要求6所述的常压等离子镀膜装置，其特征在于，该环状前驱物进料治具具有一环状流道。8.根据权利要求7所述的常压等离子镀膜装置，其特征在于，该环状流道具有一环状开口，且该环状开口与该喷嘴及/或该管状电极相对。9.根据权利要求7所述的常压等离子镀膜装置，其特征在于，该环状流道具有多个开口，所述多个开口与该喷嘴及/或该管状电极相对。10.根据权利要求9所述的常压等离子镀膜装置，其特征在于，所述多个开口之间具有相同间距。2CN108342713A说明书1/4页常压等离子镀膜装置技术领域[0001]本发明是有关于一种等离子装置，且特别是有关于一种常压等离子镀膜装置。背景技术[0002]常压等离子火炬装置通常由具有高电位差的管状电极所组成，将工作气体电离后产生等离子，管状电极下方连接喷嘴将等离子火炬稳定喷出。而常压等离子镀膜装置是在一大气压下，于其二电极之间施加高压电场，先将工作气体游离化来产生等离子，并将镀膜前驱物与等离子混合后沉积于基板上成膜。常压等离子镀膜技术可取代极为昂贵且维护手续繁杂的真空等离子镀膜技术。此外，常压等离子镀膜技术的量产流程具有连续性，因此可降低真空等离子镀膜批次制造的人力成本。[0003]然而，目前常压等离子镀膜技术最大的瓶颈在于大气环境下各种气体粒子碰撞剧烈，如何精准控制镀膜前驱物与等离子的混合将是关键技术。一种已知技术是直接将镀膜前驱物直接喷向等离子火炬。然而，这样的方式不仅容易造成镀膜前驱物逸散于大气中，而造成镀膜前驱物浪费，也会有镀膜前驱物与等离子混合时间过短，而造成镀膜前驱物与等离子混合不均的问题，进而导致薄膜品质不佳。[0004]另一种已知技术是在常压等离子镀膜装置的邻近于喷嘴处或喷嘴中设置封闭渠道，再透过封闭渠道将镀膜前驱物注入等离子腔体内使其与等离子混合。但是，这样的方式，由于等离子是高反应性电离气体，前驱物于封闭渠道由于滞留时间过长容易反应过度，造成前驱物容易沉积于封闭渠道内或等离子腔体内部，而造成污染或堵塞。此外，这些污染物不仅难以清理，且对于