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光学薄膜多频滤波与空间滤波特性研究的中期报告
本研究采用光学薄膜制备技术，制备了多频滤波器和空间滤波器，并对其特性进行了中期研究。
一、多频滤波器的制备及特性研究
1.制备方法
采用溅射法在玻璃基片上制备多层光学薄膜结构，通过多次沉积多层高、低折射率薄膜，形成多频带滤波器。采用紫外-可见-近红外光谱仪测量了滤波器的透射谱和反射谱。
2.实验结果
多频带滤波器的透射谱和反射谱如图所示：
通过图中可以看出，多频带滤波器能够在不同波段实现较高的透过率和反射率。其中，透射带宽约为100nm，反射带宽约为300nm。多频带滤波器的性能得到了初步验证，但仍需进一步研究和改进。
二、空间滤波器的制备及特性研究
1.制备方法
采用点阵法在玻璃基片上制备空间滤波器。点阵间距为2.5μm，通过阳极氧化等方法形成氧化铝颗粒。采用电子束光刻技术制备掩模，在掩模的保护下进行化学腐蚀，使得氧化铝颗粒被腐蚀掉，形成正方形的光学透过孔径。采用扫描电镜对样品的形貌进行了表征。
2.实验结果
空间滤波器的SEM图片如图所示：
通过图中可以看出，氧化铝颗粒间距均匀，孔径大小和形状基本一致。但是在化学腐蚀过程中，有些颗粒会与掩模结合，导致一些孔径不能完全形成。因此，空间滤波器的性能有待进一步优化。
综上，本研究采用光学薄膜制备技术，成功制备了多频滤波器和空间滤波器，并初步研究了其特性。但是，在实验过程中仍面临着一些困难，需要进一步改进。下一步将进一步完善制备技术和研究方法，探究其更细致的特性及应用。