一种等离子刻蚀机.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108538697A(43)申请公布日2018.09.14(21)申请号201810468355.1(22)申请日2018.05.16(71)申请人汪玉洁地址310014浙江省杭州市下城区潮王路18号浙江工业大学能源学院(72)发明人汪玉洁张云鹤(51)Int.Cl.H01J37/32(2006.01)H01L21/3065(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图4页(54)发明名称一种等离子刻蚀机(57)摘要本发明属于半导体芯片制造技术领域，具体的说是一种等离子刻蚀机，包括箱体、偏压装置、机械卡盘、抽吸泵、激励线圈、驱动电机、连杆和调节装置；驱动电机转轴通过万向轴连接着机械卡盘，机械卡盘用于固定晶圆；连杆一端铰接在机械卡盘外圈；连杆另一端通过滚珠滑动安装在箱体内壁的凸轮槽内，激励线圈用于将刻蚀气体激发成等离子体；偏压装置用于对机械卡盘中的晶圆施加偏压；调节装置用于向箱体内注入刻蚀气体，抽吸管设在箱体底部，抽吸管用于抽离刻蚀反应产物。通过驱动电机控制机械卡盘转动，通过机械卡盘外圈设置连杆，连杆在凸轮槽内滑动，使得机械卡盘中的晶圆摆动，便于刻蚀反应产物的排离。CN108538697ACN108538697A权利要求书1/1页1.一种等离子刻蚀机，包括箱体(1)、偏压装置(11)、机械卡盘(12)、抽吸管(13)和激励线圈(14)；其特征在于：还包括驱动电机(5)、连杆(6)和调节装置(7)；所述驱动电机(5)安装在箱体(1)顶部，所述驱动电机(5)转轴通过万向轴连接着机械卡盘(12)，所述机械卡盘(12)用于固定晶圆；所述连杆(6)一端铰接在机械卡盘(12)外圈；所述连杆(6)另一端通过滚珠滑动安装在箱体(1)内壁的凸轮槽(61)内；所述激励线圈(4)环绕箱体(1)设置，激励线圈(4)用于将刻蚀气体激发成等离子体；偏压装置(11)与箱体(1)相连，偏压装置(11)用于对机械卡盘(12)中的晶圆施加偏压；所述调节装置(7)设置箱体(1)底板上，所述调节装置(7)用于向箱体(1)内注入刻蚀气体，所述抽吸管(13)设在箱体(1)底部，抽吸管(13)用于抽离刻蚀反应产物。2.根据权利要求1所述的一种等离子刻蚀机，其特征在于：所述调节装置(7)包括转盘(71)、弧形叶片(72)、气孔(73)和进气管(8)；所述进气管(8)安装在箱体(1)底板中心；所述转盘(71)转动安装在进气管(8)端头；所述转盘(71)外圈设有一组弧形叶片(72)；所述弧形叶片(72)内弧面设有一组气孔(73)；所述气孔(73)的轴向与转盘(71)的同心圆相切且向晶圆方向倾斜。3.根据权利要求2所述的一种等离子刻蚀机，其特征在于：所述进气管(8)包括上支管(81)、堵块(82)、上浮动板(83)、下浮动板(84)、并联伸缩杆(85)、下支管(86)和软管；所述上支管(81)转动安装在转盘(71)底部，所述上支管(8)一端转动安装堵块(82)；所述堵块(82)设有扇形缺口；所述上支管(81)内壁设有一组导气管(811)；所述导气管(811)开口朝向堵块(82)，所述导气管(811)喷出刻蚀气体使堵块(82)旋转；堵块(82)转动使不同的弧形叶片(72)交替喷出刻蚀气体；所述上支管(81)另一端固定着上浮动板(83)；所述下浮动板(84)通过一组并联伸缩杆(85)连接在上浮动板(83)底部；所述上浮动板(83)和下浮动板(84)中部通过软管连接，所述下浮动板(84)底部固连着下支管(86)；所述下支管(86)固定在箱体(1)底部中心并连接到供气装置上。4.根据权利要求2所述的一种等离子刻蚀机，其特征在于：所述弧形叶片(72)内部设有垂直气孔(73)的滑道，所述滑道内滑动安装着挡板(721)；所述弧形叶片(72)内弧面通过扭簧转动安装一组导流板(722)；所述导流板(722)用于改变气孔(73)喷出的刻蚀气体流向。5.根据权利要求1所述的一种等离子刻蚀机，其特征在于：所述连杆(6)包括第一支杆(67)和第二支杆(62)，所述第一支杆(67)一端通过滚珠滑动安装在箱体(1)内壁的凸轮槽(61)内；所述第一支杆(67)另一端通过弹簧连接着第二支杆(62)的一端；所述第二支杆(62)另一端铰接在机械卡盘(12)外圈；所述支板(63)固连在箱体(1)内壁；所述支板(63)端头设有横板(64)，所述横板(64)上设有一组三角块(65)；所述第二支杆(62)设为圆柱形。6.根据权利要求5所述的一种等离子刻蚀机，其特征在于：所述三角块(65)一侧的横板(64)上设有拱起的弧形弹片(66)。2CN108538697A说明书1/5页一种等离子刻蚀机技术领域[0001]本发明属于半导体芯片制造技术领域，具体的说