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SiCN薄膜的制备及其光学参数的研究的中期报告
1.前言
本次中期报告主要介绍SiCN薄膜的制备方法和其光学参数的研究进展。SiCN薄膜是一种新型的功能材料，具有较高的硬度、耐磨性和化学稳定性，被广泛应用于电子元器件、光学薄膜等领域。本项目旨在研究SiCN薄膜的制备方法及其光学性能，为其进一步应用提供基础研究支持。
2.制备方法
采用化学气相沉积法制备SiCN薄膜。在反应室中，通过控制局部温度和化学气体流量，使氨气及硅源、碳源（苯腈）经过复杂的化学反应生成SiCN薄膜沉积在衬底上。制备过程中，需要对反应室温度、气体流量等参数进行精确控制，以达到较好的沉积效果。
3.光学参数测试
采用旋涂法制备SiCN薄膜样片，通过紫外可见光谱仪测试薄膜在可见光域的吸收光谱和反射光谱，进一步研究其光学性能。实验结果表明，SiCN薄膜在可见光区域呈现出较高的透明度和较低的反射率，同时具有较高的折射率和色散率。
4.结论
通过化学气相沉积法制备了SiCN薄膜，并对其光学性能进行了研究。实验结果表明，SiCN薄膜具有较好的光学性能，可应用于光学薄膜、光电子器件等领域。同时，实验中也发现了一些问题，如沉积速率不均匀、沉积温度及气压等工艺参数对沉积效果影响较大等，这些问题需要在后续研究中进一步探究和改进。