有机合成中的常用保护基.ppt

有机合成中的常用保护基参考书目复杂分子的合成策略选择保护基的基本原则常用的保护基团常用的脱保护基方法保护基的组合使用原则一、羟基的保护1.硅烷醚类保护法三甲基硅氧醚（TMS-OR）脱除保护
水、饱和NaHCO3溶液、K2CO3的甲醇溶液
HOAc、酸性树脂
FeCl3、BF3.Et2O
DDQ
位阻越大，水解速度越慢；带吸电子基团，水解加快三乙基硅氧醚（TES-OR）脱除保护
对Swern、Dess-Martin、DDQ氧化，格氏试剂稳定
2%HF-MeCN、H2O-HOAc-THF(3:5:11)、10%Pd-C叔丁基二甲基硅氧醚（TBDMS-OR）15叔丁基二苯基硅氧醚（TBDPS-OR）脱除TBDMS的质子酸和碱都可以脱除TBDPS，但反应时间较长。2.烷基醚保护法甲基醚（MeOR）形成保护脱除保护苄基醚（BnOR）对甲氧苄基醚（PMB-OR）三苯甲基醚（Tr-OR）273.烷氧基甲基醚保护法甲氧基甲基醚（MOM）四氢吡喃（THP-OR）4.酯类保护法乙酸酯氯乙酸酯碳酸酯类Cbz二、酚羟基的保护1.酚醚类保护法脱保护：质子酸、Lewis酸苄基酚醚
MOM醚2.硅烷醚保护法453.酚酯的保护法碳酸酯磺酸酯4.邻二酚的保护50三、二醇的保护1.缩醛保护法丙酮化合物56芳香亚甲基缩醛5859亚甲基缩醛二苯基亚甲基缩醛2.硅烷类保护法二叔丁基亚硅醚1,1,3,3-四异丙基二硅氧醚四、羰基的保护1.O,O-缩醛67共轭酮基的双键移位；脱除保护基后能复位脱除保护
质子酸或Lewis酸催化
酮的缩醛比醛的缩醛水解速率快
缩醛的碳原子上的取代基，能否稳定碳正离子，则有利于水解反应；如果不能稳定碳正离子（羰基、硝基、三氟甲基），则不利于水解反应。
环状缩醛的水解速率与环的大小有关，1,3-二氧戊烷的水解速率小于1,3-二氧六环
环戊酮的缩醛水解速率大于环己酮的缩醛水解速率
有取代基的环状缩醛水解速率小于没有取代基的相应的环状缩醛。
非环状缩醛比环状缩醛容易水解0.003MHCl的二氧六环-水溶液中(7:3)，30oC下的相对水解速率：
2.O,O-二乙酰基缩醛形成保护脱除保护
3.S,S-缩醛形成保护脱除保护应用4.O,S-缩醛形成和脱除五、羧基的保护合成羧酸酯的通用方法1.甲酯保护法脱除保护
碱金属的氢氧化物或碳酸盐
2.叔丁酯保护法形成保护脱除保护3.苄基酯保护法脱除保护用于羧基的其他保护基六、氨基的保护1.酰胺类保护法甲酰胺乙酰胺
乙酰氯、卤代乙酸酐、以酸酐、乙酸苯酯等2.氨基甲酸酯类保护法叔丁氧甲酰基(Boc)脱除保护苄氧甲酰基(Cbz)脱除保护9-芴甲氧甲酰基(Fmoc)3.磺酰胺类保护法芳香磺酰胺1034.N-烷基胺类保护法1055.亚胺类保护法107其他基团的保护