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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108788987A(43)申请公布日2018.11.13(21)申请号201810713097.9(22)申请日2018.06.29(71)申请人安顺市杰勇石业有限公司地址561000贵州省安顺市西秀区大西桥镇三铺村三铺组(72)发明人王德勇(74)专利代理机构贵阳睿腾知识产权代理有限公司52114代理人谷庆红(51)Int.Cl.B24B7/22(2006.01)B24B47/12(2006.01)B24B41/047(2006.01)权利要求书1页说明书2页附图1页(54)发明名称一种平面石材打磨抛光一体装置(57)摘要本发明提供了一种平面石材打磨抛光一体装置,包括导轨、滑架;导轨为两颗平行固定,滑架的正视截面为U型,滑架顶端两侧有向下弯曲,弯曲部位的内部设置有滑轮,滑架中底部为平面,平面上固定有多个打磨电机,打磨电机动力输出轴朝下,打磨电机下端动力输出轴上固定有磨块,多个打磨电机呈偶数行矩阵分布,其中首行为前端,从首行起每两行打磨电机下端固定的磨块规格相同,且从首行起任意后行上的打磨电机下端固定的磨块的表面粒度不粗于任意前行上的打磨电机下端固定的磨块。本发明通过偶数行矩阵分布的方式固定打磨电机从而使磨石呈偶数行矩阵分布,从而能有效避免更换磨石的过程。CN108788987ACN108788987A权利要求书1/1页1.一种平面石材打磨抛光一体装置,包括导轨(11)、滑架(21),其特征在于:导轨(11)为两颗平行固定,滑架(21)的正视截面为U型,滑架(21)顶端两侧有向下弯曲,弯曲部位的内部设置有滑轮(24),滑架(21)中底部为平面,平面上固定有多个打磨电机(22),打磨电机(22)动力输出轴朝下,打磨电机(22)下端动力输出轴上固定有磨块(23),多个打磨电机(22)呈偶数行矩阵分布,其中首行为前端,从首行起每两行打磨电机(22)下端固定的磨块(23)规格相同,且从首行起任意后行上的打磨电机(22)下端固定的磨块(23)的表面粒度不粗于任意前行上的打磨电机(22)下端固定的磨块(23)。2.如权利要求1所述的平面石材打磨抛光一体装置,其特征在于:所述磨块(23)下端位于同一平面。3.如权利要求1所述的平面石材打磨抛光一体装置,其特征在于:所述滑架(21)顶端两侧的向下弯曲部位,所设置的滑轮(24)数量相同。4.如权利要求1所述的平面石材打磨抛光一体装置,其特征在于:所述滑架(21)顶端两侧的向下弯曲部位,所设置的滑轮(24)中,每侧均至少有一个滑轮(24)为轮毂电机。5.如权利要求1所述的平面石材打磨抛光一体装置,其特征在于:所述滑轮(24)的滚动接触面为内凹结构,导轨(11)上对应于内凹结构的位置有相配的凸起。6.如权利要求1所述的平面石材打磨抛光一体装置,其特征在于:所述导轨(11)两端上固定有止块(12)。7.如权利要求1所述的平面石材打磨抛光一体装置,其特征在于:所述打磨电机(22)的分布,每行都与前一行交错,首行数量为偶数。8.如权利要求1所述的平面石材打磨抛光一体装置,其特征在于:所述打磨电机(22)行数至少为六行。2CN108788987A说明书1/2页一种平面石材打磨抛光一体装置技术领域[0001]本发明涉及一种平面石材打磨抛光一体装置。背景技术[0002]如大理石面板等石材在加工时需要打磨、抛光,其中至少需要粗磨、细磨、抛光,有时候因工艺需求则需要粗磨、细磨、精磨、抛光,操作过程相似,差别主要在于采用的磨石不同,现有技术中采用的一般方法均为更换磨石,但如此一来,每一完整加工过程中都会有大量时间和能源消耗在更换磨石上。发明内容[0003]为解决上述技术问题,本发明提供了一种平面石材打磨抛光一体装置,该平面石材打磨抛光一体装置通过偶数行矩阵分布的方式固定打磨电机从而使磨石呈偶数行矩阵分布,从而能有效避免更换磨石的过程。[0004]本发明通过以下技术方案得以实现。[0005]本发明提供的一种平面石材打磨抛光一体装置,包括导轨、滑架;导轨为两颗平行固定,滑架的正视截面为U型,滑架顶端两侧有向下弯曲,弯曲部位的内部设置有滑轮,滑架中底部为平面,平面上固定有多个打磨电机,打磨电机动力输出轴朝下,打磨电机下端动力输出轴上固定有磨块,多个打磨电机呈偶数行矩阵分布,其中首行为前端,从首行起每两行打磨电机下端固定的磨块规格相同,且从首行起任意后行上的打磨电机下端固定的磨块的表面粒度不粗于任意前行上的打磨电机下端固定的磨块。[0006]所述磨块下端位于同一平面。[0007]所述滑架顶端两侧的向下弯曲部位,所设置的滑轮数量相同。[0008]所述滑架顶端两侧的向下弯曲部位,所设置的滑轮中,每侧均至少有一个滑轮为轮毂电机。[0009]所述滑轮的滚