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钽薄膜电阻的制备及性能研究的开题报告
一、选题背景
随着科学技术的不断进步和人们对高品质电子材料需求的日益增加，钽薄膜电阻作为高品质电子材料的重要组成部分，由于其优异的机械、热学性能以及对高温、高频的良好稳定性而备受关注。钽薄膜电阻广泛应用于稳压、模拟和数字电路中，具有高精度、高稳定性和高可靠性等优点，被大量应用于计算机、通讯、电子、自动化控制等领域。
二、研究目的
本文研究的目的是制备钽薄膜电阻，并研究其制备工艺参数对电阻性能的影响，探索提高钽薄膜电阻性能的途径与方法。
三、研究方法
1.钽薄膜的制备方法：采用磁控溅射法制备钽薄膜，对控制溅射工艺参数进行优化，获得制备高品质钽薄膜的最佳工艺参数。
2.钽薄膜电阻性能测试方法：利用四探针法测试钽薄膜电阻的电学性能，通过不同制备工艺参数的比较，研究制备条件与电阻性能之间的关系，进一步优化钽薄膜的性能。
四、研究内容
1.钽薄膜电阻性质的研究：基于磁控溅射法制备不同厚度、不同晶面定向和不同制备参数的钽薄膜，并采用四探针法对其电学性能进行测试，研究制备参数与电阻性能之间的关系，探索优化钽薄膜性能的有效方法。
2.钽薄膜电阻应用研究：根据不同应用场景的需要，选取不同材料和不同制备技术制备钽薄膜电阻，并进行相应的性能测试研究，了解在不同应用场景下钽薄膜电阻的性能要求，为实际应用提供支持。
五、拟解决的关键问题
1.研究制备条件对钽薄膜电阻性能的影响，探索优化钽薄膜性能的有效方法。
2.研究在不同应用场景下钽薄膜电阻的性能要求，为实际应用提供支持。
六、预期成果
1.获得制备高品质钽薄膜的最佳工艺参数，并探索优化钽薄膜性能的有效方法。
2.获得钽薄膜电阻在不同应用场景下的性能要求，为实际应用提供支持。
3.提高钽薄膜电阻的品质和性能，推动其在电子材料领域的应用。
七、参考文献
1.高桂林.钽薄膜制备工艺与应用[A].光学科学与技术学术会议论文集[C].中国光学学会,2014.
2.刘良.紧凑型电路板电感制作研究[D].南京航空航天大学,2018.
3.GräbnerJ,SteinebachC,OckerB.Low-resistance,high-temperaturestableTaSi2thin-filmresistors[J].ThinSolidFilms,2002,402(1/2):11-16.