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TiN薄膜性能及结合强度研究的中期报告
中期报告：
背景介绍：
金属镀膜是提高金属材料表面性能的一种有效手段。TiN薄膜是一种具有高硬度、良好抗腐蚀性和较高导电性能的金属陶瓷薄膜，广泛应用于电子元器件和机械加工领域。因此，TiN薄膜性能的研究具有重要意义。
研究目的：
本文旨在研究TiN薄膜的性能和结合强度，为其应用提供理论依据。
研究内容：
1.TiN薄膜的制备
采用物理气相沉积方法在Si（100）衬底上沉积TiN薄膜，先通过真空泵抽真空，再加热钨丝制造的TiN源材料，通过惰性气体（氩气）为载气，在真空室中，将TiN源材料加热至熔点以上，TiN分子从TiN源材料蒸发、扩散并沉积到Si（100）衬底上形成TiN薄膜。
2.TiN薄膜的性能测试
首先通过扫描电子显微镜（SEM）、透射电子显微镜（TEM）和X射线衍射仪（XRD）等方法对制备的TiN薄膜进行形态、组分和晶体结构等方面的表征。然后利用显微硬度计测试TiN薄膜的硬度和弹性模量等力学性能，并通过电化学工作站测试其耐腐蚀性。
3.TiN薄膜的结合强度测试
采用万能材料试验机对TiN薄膜和Si（100）衬底之间的结合强度进行测试。将样品固定在试验机上，在一定速度下施加力，通过计算材料拉伸断裂前的载荷和样品面积，计算出结合强度。
研究预期结果：
通过对TiN薄膜的性能和结合强度进行测试和研究，预计可以得出该薄膜的硬度、弹性模量、耐腐蚀性和结合强度等性能参数，并为其应用提供理论指导。