一种新型涂布机及其涂布方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109668900A(43)申请公布日2019.04.23(21)申请号201910043144.8(22)申请日2019.01.17(71)申请人深圳市华星光电半导体显示技术有限公司地址518132广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号(72)发明人刘子琪(74)专利代理机构深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)44300代理人黄威(51)Int.Cl.G01N21/94(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图2页(54)发明名称一种新型涂布机及其涂布方法(57)摘要一种新型涂布机，包括：传动装置、擦拭装置、口金以及光学探测装置；其中，所述传动装置包括：工作台、滚轮、导轨以及传送带；所述擦拭装置设置在所述传动装置上方，与所述传送带之间保持一定的距离；所述口金正对所述传送带进行设置，用于对所述传送带上的基板进行涂布；所述光学探测装置设置在所述工作台上，所述光学探测器可以发射光波和接收光波，还可以对发出和接收到的光波信号进行比较；所述光学探测装置上还设置有两个信号灯，所述信号灯用于反馈检测到的信号；有益效果：通过提供一种新型的涂布机，可以在每次进行涂布动作前，对口金的出液口进行检测，确保口金出液口处无异物时，再开始进行涂布工作，提高了涂布的成功率。CN109668900ACN109668900A权利要求书1/1页1.一种新型涂布机，其特征在于，包括：传动装置、擦拭装置、口金以及光学探测装置；其中，所述传动装置包括：工作台、滚轮、导轨以及传送带；所述擦拭装置设置在所述传动装置上方，与所述传送带之间保持一定的距离；所述口金正对所述传送带进行设置，用于对所述传送带上的基板进行涂布；所述光学探测装置设置在所述工作台上，所述光学探测器可以发射光波和接收光波，还可以对发出和接收到的光波信号进行比较；所述光学探测装置上还设置有两个信号灯，所述信号灯用于反馈检测到的信号。2.根据权利要求1所述的新型涂布机，其特征在于，所述擦拭装置的长度大于或等于所述口金出液口的长度。3.根据权利要求1所述的新型涂布机，其特征在于，所述口金和所述擦拭装置均可沿X轴方向和Z轴方向运动，所述光学探测装置可沿Y轴方向运动。4.根据权利要求3所述的新型涂布机，其特征在于，所述光学探测装置发射出的光波波长范围为：400-770nm。5.根据权利要求4所述的新型涂布机，其特征在于，所述光学探测装置可发出多种不同光阻的谱线。6.根据权利要求5所述的新型涂布机，其特征在于，所述光学探测装置外形由一个立方体或是一个长方体和一个圆柱体组成。7.根据权利要求6所述的新型涂布机，其特征在于，所述光学探测装置上还设置有两个信号灯。8.根据权利要求7所述的新型涂布机，其特征在于，所述两个信号灯为一个红灯和一个绿灯。9.根据权利要求1所述的新型涂布机，其特征在于，所述工作台包括第一导轨和第二导轨。10.一种新型涂布机的涂布方法，其特征在于，包括上述任一项所述的新型涂布机，其涂布方法包括以下步骤：S10，移动所述擦拭装置和所述口金，使得所述擦拭装置对所述口金出液口进行擦拭；S20，移开所述擦拭装置，同时将所述口金对准所述光学探测装置；S30，所述光学探测装置沿第一导轨方向移动，并发出光波；S40，当所述光学探测装置上的绿灯点亮时，所述口金沿X轴正方向移动，对准所述基板边缘；S50，所述基板在所述传送带上沿X轴负方向运动，同时所述口金开始涂布光阻液。2CN109668900A说明书1/4页一种新型涂布机及其涂布方法[0001]技术内容[0002]本申请涉及涂布领域，特别是涉及一种新型涂布机及其涂布方法。背景技术[0003]在TFT-LCD(thinfilmtransistor-liquidcrystaldisplay，薄膜晶体管液晶显示器)基板制备过程中，涂布是很重要的一个环节。在涂布过程中，如果涂布机的口金擦拭不干净，口金出液口中还残留有异物时还继续投入使用，将会导致所生产的基板表面出现破膜、刮痕等问题，这将严重影响基板的质量，因此口金的擦拭和检测是涂布过程中非常重要的环节。而在现有的涂布机中，还没有能够在基板进行涂布前，对口金出液口进行检测的装置。[0004]因此，现有的涂布机技术中，还存在涂布机中的口金在涂布前不能对其进行检测是否含有异物或是异物含量是否达标的问题，急需改进。发明内容[0005]本申请涉及一种新型涂布机及其涂布方法，用于解决现有技术中存在的涂布机中的口金在涂布前不能对其进行检测是否含有异物或是异物含量是否达标的问题。[0006]为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：[0007]本申请提供的一种新型涂布机，包括：传动装置、擦拭装置、口金以及光学探测装置；其中，[0008]所述传动装置