基于透镜阵列的光束匀化器.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110214291A(43)申请公布日2019.09.06(21)申请号201780069455.0德克·安德烈·科特(22)申请日2017.09.18(74)专利代理机构北京英赛嘉华知识产权代理(30)优先权数据有限责任公司1120420174932016.09.19NL代理人王达佐王艳春(85)PCT国际申请进入国家阶段日(51)Int.Cl.2019.05.09G02B27/09(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据PCT/NL2017/0506122017.09.18(87)PCT国际申请的公布数据WO2018/052298EN2018.03.22(71)申请人库力&索法利特克有限公司地址荷兰埃因霍温(72)发明人阿德里安努斯·约翰内斯·帕特鲁斯·玛利亚·维梅尔米哈伊尔·尤利耶维奇·洛克特夫权利要求书3页说明书10页附图8页(54)发明名称基于透镜阵列的光束匀化器(57)摘要一种用于光束匀化器(100)的校正掩模(10)包括透镜阵列(11)。校正掩模配置为提供成形的初始光束轮廓(I0’)。入射光束(B0)和照明平面(14)之间的多个光路(Pa)的子集至少部分地被校正掩模(10)阻挡以提供进一步均匀化光束轮廓(I2)，光束轮廓(I2)具有相对于初始均匀化光束轮廓(I1)进一步减小的光强度变化(ΔI2)。掩模包括根据与透镜阵列(11)的透镜网格布局(L)匹配的掩模网格布局(M)布置的多个子掩模(10a)。子掩模(10a)中的每一个设计有特定的子掩模图案，以成形(S)初始光束轮廓(I0)的通过小透镜(11a)中的特定一个的相应子区域。CN110214291ACN110214291A权利要求书1/3页1.一种光束匀化器(100)，包括：-透镜阵列(11)，配置为接收具有初始光束轮廓(I0)的入射光束(B0)，所述初始光束轮廓(I0)具有待均匀化的初始光强度变化(ΔI0)，其中，所述透镜阵列(11)由多个小透镜(11a)形成，所述多个小透镜(11a)根据跨越所述初始光束轮廓(I0)的区域的透镜网格布局(L)布置，其中，每个小透镜(11a)布置在相应的光路(Pa)中以在照明平面(14)处投射所述初始光束轮廓(I0)的相应子区域的部分图像(Ia)，其中，多个所述部分图像(Ia)投射成在所述照明平面(14)处重叠以在所述照明平面(14)处形成所述初始光束轮廓(I0)的初始均匀化光束轮廓(I1)，其中，通过所述部分图像(Ia)的重叠，所述初始均匀化光束轮廓(I1)具有相对于所述入射光束(B0)的所述初始光束轮廓(I0)中的所述初始光强度变化(ΔI0)初始减小的光强度变化(ΔI1)；以及-校正掩模(10)，配置为提供成形的初始光束轮廓(I0’)，其中，所述入射光束(B0)和所述照明平面(14)之间的所述多个光路(Pa)的子集至少部分地被所述校正掩模(10)阻挡，以提供进一步均匀化光束轮廓(I2)，所述进一步均匀化光束轮廓(I2)相对于所述初始均匀化光束轮廓(I1)具有进一步减小的光强度变化(ΔI2)；其中，所述掩模包括根据与所述透镜阵列(11)的所述透镜网格布局(L)匹配的掩模网格布局(M)布置的多个子掩模(10a)，其中，所述掩模网格布局(M)与所述透镜网格布局(L)对齐，其中，所述子掩模(10a)中的每一个设计有特定的子掩模图案，以成形(S)所述初始光束轮廓(I0)的通过所述小透镜(11a)中的特定一个的相应子区域，其特征在于，不同子掩模(10a，10b，10c，10d)的子掩模图案包括与相应小透镜(11a)的中心对准的不同圆形边缘，其中，所述不同圆形边缘设计成不同地成形所述初始光束轮廓(I0)的通过不同小透镜的相应子区域。2.根据权利要求1所述的光束匀化器(100)，其中，所述不同子掩模(10a、10b、10c、10d)的所述不同圆形边缘被投射为不同的环形区域(Ia、Ib、Ic、Id)，从而在所述进一步均匀化光束轮廓(I2)中提供所述进一步减小的光强度变化(ΔI2)。3.根据权利要求1或2所述的光束匀化器(100)，其中，所述子掩模(10c)的所述圆形边缘限定通过光的圆形内部区域(10ci)和包围所述圆形内部区域(10ci)的外部区域(10co)，在所述外部区域(10co)中，光被阻挡以对所述初始均匀化光束轮廓(I1)的中心处的相对低的光强度和/或所述初始均匀化光束轮廓(I1)的外边缘处的相对高的光强度进行校正。4.根据权利要求1或2所述的光束匀化器(100)，其中，所述子掩模(10c)的所述圆形边缘限定阻挡光的圆形内部区域(10ei)和包围所述圆形内部区域(10ei)的外部区域(10eo)，光通过所述外部区域(10eo)，以对所述初始均匀化光