一种带有旋转电极驱动的离子束刻蚀机.pdf
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一种带有旋转电极驱动的离子束刻蚀机.pdf
本发明属于离子束刻蚀机技术领域,尤其是一种带有旋转电极驱动的离子束刻蚀机,包括腔盖、伺服电机、下电极旋转轴、下电极,腔盖的中心位置设置有旋转轴定子,下电极旋转轴贯穿旋转轴定子,位于腔盖外侧的下电极旋转轴上设置有蜗轮,伺服电机的动力输出端上设有蜗杆,通过蜗轮和蜗杆的传动,带动下电极转动。本发明重量很轻,无需设置单独的支架支撑,且不需要配重辅助,减少了伺服电机的重量和所占空间,省掉了配重的重量及所占空间,省掉了支架的重量及其所占空间,且功率较小的伺服电机相对成本较低,且省掉了配重及支架的成本。
干刻蚀电极及刻蚀机.pdf
本发明公布了一种包括相对放置的上部电极与下部电极,所述下部电极包括电极本体、电极凸台及遮蔽片,所述电极本体包括面对所述上部电极的第一表面,所述电极凸台突设于所述第一表面,所述遮蔽片设于所述第一表面且包围所述电极凸台,所述遮蔽片与所述电极凸台之间设有间隙,所述第一表面上设有沟槽,所述沟槽与所述电极凸台邻接,所述沟槽内填充第一隔离介质,所述间隙在所述第一表面上的正投影落入所述第一隔离介质范围内,所述第一隔离介质用于隔离等离子体与所述电极本体。杜绝了上部电极与下部电极之间异常放电或产生直流电压的现象发生,防止刻
一种提高离子束刻蚀陡直度的方法.pdf
本发明的一种提高离子束刻蚀陡直度的方法,包括如下步骤:步骤1,将已经图形化的晶圆传输至离子束刻蚀腔,首先进行离子束刻蚀,刻蚀至预定的膜层;步骤2,进行离子束修饰,改善晶圆侧壁陡直度;步骤3,循环离子束刻蚀和离子束修饰,直到刻蚀结束和修饰结束。本发明是在现有的设备上通过改变工艺流程来实现侧壁陡直度的提高,所以节约了成本;本发明由于刻蚀和修饰是分开来实现,所以可以在保持高效率刻蚀的同时得到较好的侧壁陡直度;本发明不通过选择掩模来实现高的侧壁陡直度,降低了掩模的使用要求,增加了掩模的使用范围;本发明由于修饰使用
一种提高离子束刻蚀陡直度的方法.pdf
本发明的一种提高离子束刻蚀陡直度的方法,包括如下步骤:步骤1,将已经图形化的晶圆传输至离子束刻蚀腔,首先进行离子束刻蚀,刻蚀至预定的膜层;步骤2,进行离子束修饰,改善晶圆侧壁陡直度;步骤3,循环离子束刻蚀和离子束修饰,直到刻蚀结束和修饰结束。本发明是在现有的设备上通过改变工艺流程来实现侧壁陡直度的提高,所以节约了成本;本发明由于刻蚀和修饰是分开来实现,所以可以在保持高效率刻蚀的同时得到较好的侧壁陡直度;本发明不通过选择掩模来实现高的侧壁陡直度,降低了掩模的使用要求,增加了掩模的使用范围;本发明由于修饰使用
一种机械切削-离子束刻蚀制备光栅方法.pdf
本发明公开了一种机械切削‑离子束刻蚀制备光栅方法,克服制作高密度刻线的衍射光栅过程中,切削刀具刀尖圆角使得光栅衍射效率下降的影响。本发明是一种在机械切削基础上采用离子束刻蚀的方法,通过一块机械切削母板光栅复制而来的子板光栅,在其表面镀上Al或GaAs膜等其他反射膜,并选择合适离子束入射角进行离子束刻蚀,刻槽槽底圆弧部分离子束刻蚀速率比刻槽其它部分快,可清除圆弧,使得圆弧刻蚀成尖角,且光栅闪耀角在离子束刻蚀过程中保持不变,刻槽深度增加,提高光栅衍射效率。与一般全息‑离子束刻蚀光栅相比,本发明提供的机械切削‑