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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112059893A(43)申请公布日2020.12.11(21)申请号202010842393.6(22)申请日2020.08.20(71)申请人深圳市琦美创科技有限公司地址518000广东省深圳市南山区南头街道南山大道3074号(72)发明人刘殿坤(51)Int.Cl.B24B37/00(2012.01)B24B37/11(2012.01)B24B37/27(2012.01)B24B37/34(2012.01)B24B55/02(2006.01)B24B55/06(2006.01)权利要求书2页说明书5页附图4页(54)发明名称一种具有缓冲和减振功能的晶圆研磨设备(57)摘要本发明涉及一种具有缓冲和减振功能的晶圆研磨设备,包括工作台、驱动箱和传动轴,所述驱动箱设置在工作台的上方且与工作台固定连接,所述传动轴竖向设置在驱动箱和工作台之间,所述驱动箱内设有驱动装置和供水装置,所述传动轴的顶端与驱动装置连接,所述工作台上设有连接机构,所述传动轴的底端设有研磨机构,所述连接机构包括支撑板和至少两个连接组件,所述连接组件包括第一弹簧、连接线、定滑轮、移动管、移动盘、移动杆、支撑块、第二弹簧、连接孔和通孔,该具有缓冲和减振功能的晶圆研磨设备通过连接机构实现了缓冲和减振的功能,不仅如此,还通过研磨机构实现了研磨晶圆的功能。CN112059893ACN112059893A权利要求书1/2页1.一种具有缓冲和减振功能的晶圆研磨设备,包括工作台(1)、驱动箱(2)和传动轴(3),所述驱动箱(2)设置在工作台(1)的上方且与工作台(1)固定连接,所述传动轴(3)竖向设置在驱动箱(2)和工作台(1)之间,所述驱动箱(2)内设有驱动装置和供水装置,所述传动轴(3)的顶端与驱动装置连接,其特征在于,所述工作台(1)上设有连接机构,所述传动轴(3)的底端设有研磨机构;所述连接机构包括支撑板(4)和至少两个连接组件,所述支撑板(4)与传动轴(3)垂直且位于工作台(1)和传动轴(3)之间,所述支撑板(4)与工作台(1)之间设有间隙,所述连接组件以传动轴(3)的轴线为中心周向均匀分布在支撑板(4)的底部;所述连接组件包括第一弹簧(5)、连接线(6)、定滑轮(7)、移动管(8)、移动盘(9)、移动杆(10)、支撑块(11)、第二弹簧(12)、连接孔和通孔,所述第一弹簧(5)位于支撑板(4)和工作台(1)之间,所述工作台(1)通过第一弹簧(5)与支撑板(4)连接,所述通孔设置在工作台(1)上,所述连接孔设置在支撑板(4)上,所述移动管(8)与传动轴(3)平行,所述移动管(8)依次穿过连接孔和通孔,所述移动管(8)与连接孔的内壁固定连接,所述移动管(8)与通孔的内壁滑动连接,所述移动管(8)的顶端与支撑板(4)的顶部处于同一平面,所述移动盘(9)和移动杆(10)均与移动管(8)同轴设置,所述移动盘(9)、移动杆(10)、第二弹簧(12)和支撑块(11)均位于移动管(8)内,所述移动盘(9)与移动管(8)的内壁滑动且密封连接,所述移动杆(10)的顶端固定在移动盘(9)的底部,所述支撑块(11)固定在移动管(8)的内壁上,所述支撑块(11)上设有装配孔,所述移动杆(10)穿过装配孔且与装配孔的内壁滑动连接,所述第二弹簧(12)位于移动盘(9)和支撑块(11)之间,所述支撑块(11)通过第二弹簧(12)与移动盘(9)连接,所述定滑轮(7)固定在移动管(8)的底端,所述连接线(6)的一端固定在移动杆(10)的底端,所述连接线(6)的另一端绕过定滑轮(7)固定在工作台(1)的底部;所述研磨机构包括连接管(13)、研磨盘(14)和研磨组件,所述连接管(13)和研磨盘(14)均与传动轴(3)同轴设置,所述连接管(13)的顶端与传动轴(3)的底端密封且固定连接,所述研磨盘(14)与连接管(13)的底端抵靠且密封连接,所述研磨盘(14)上设有水孔,所述水孔与连接管(13)同轴设置且与连接管(13)连通,所述研磨盘(14)位于支撑板(4)和驱动箱(2)之间且与支撑板(4)之间设有间隙,所述研磨组件设置在连接管(13)上;所述研磨组件包括密封管(15)、贯穿孔、两个密封环(16)、两个支撑单元和两个供水单元,所述密封管(15)和密封环(16)均与连接管(13)同轴设置,所述连接管(13)依次穿过两个密封环(16),所述连接管(13)与密封环(16)滑动且密封连接,两个密封环(16)之间设有间隙,所述密封管(15)位于两个密封环(16)之间,所述密封管(15)的两端分别与两个密封环(16)密封且固定连接,所述连接管(13)穿过密封管(15)且与密封管(15)的内壁之间设有间隙,所述贯穿孔设置在连接管(13)上,