SiC_Al电子封装材料的制备工艺研究.pdf
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第26卷第2期西安科技大学学报Vol.26No.22006年6月JOURNALOFXI’ANUNIVERSITYOFSCIENCEANDTECHNOLOGYJun.2006文章编号:1672-9315(2006)02-0224-03SiC/Al电子封装材料的制备工艺研究王涛,王志华(西安科技大学材料科学与工程系,陕西西安710054)摘要:对用无压浸渗法制备高体积分数的SiC/Al复合材料的浸渗过程进行了分析。结果表明:温度在900~1100℃之间变化时,随着温度的升高浸渗深度增加;充分的浸渗时间可提高界
SiCAl电子封装材料制备工艺研究进展.docx
SiCAl电子封装材料制备工艺研究进展SiCAl电子封装材料制备工艺研究进展摘要:SiCAl材料是一种具有优良机械性能和电磁性能的电子封装材料,它在电子封装行业有着广泛的应用前景。本文综述了SiCAl材料制备工艺的研究进展,包括传统的熔融法制备工艺、激光烧结法制备工艺和化学气相沉积法制备工艺。同时,还对SiCAl材料的性能评价和未来的研究方向进行了讨论。关键词:SiCAl材料;制备工艺;研究进展;电子封装1.引言随着电子封装技术的发展,对封装材料的要求也越来越高。SiCAl材料作为一种新型的封装材料,因其
轻质Si_Al电子封装材料制备工艺的研究.pdf
第22卷第3期粉末冶金技术Vol 22,No 3 2004年6月PowderMetallurgyTechnologyJune 2004轻质Si Al电子封装材料制备工艺的研究蔡杨* 郑子樵 李世晨 冯曦(中南大学材料科学与工程学院,长沙 410083)摘 要: 探讨采用传统粉末冶金方法制备轻质、高性能Si 50%Al(质量分数,下同)电子封装材料的可能性。研究了粉末粒度组成、压制压力、烧结温度对材料室温导热性和室温到200 间热膨胀系数的影响。发现采用一定
高性能Diamond/SiC电子封装材料的制备工艺.pdf
本发明提供了一种高性能Diamond/SiC电子封装材料的制备工艺,其特征是首先按重量百分比,将10~15%的粘接剂,5~20%的石墨,20~40%的硅粉,30~60%的金刚石颗粒湿混,混合时间16~24h。然后在10~50MPa压力和150℃的温度下温压成形获得复合材料毛坯。在氩气保护气氛中1100℃烧结24h,随炉冷却后得到具有一定强度和孔隙度的Diamond/Si/C多孔基体。然后将气相渗透的渗料置于石墨坩埚中,将所制备的Diamond/Si/C多孔基体置于该石墨坩埚上,然后整体置于高真空烧结炉中进
一种轻质电子封装材料的制备工艺.pdf
一种轻质电子封装材料的制备工艺,由铝和硅构成,其中硅的质量百分比含量为30%-80%,其余为铝,将铝和硅混合后置于800℃~1300℃下经真空感应炉熔炼制成自耗电极棒,再装入电渣炉进行电渣熔炼,电渣炉工作电压为20-40V,工作电流为1~10kA,引弧块为纯铝块,引弧渣料为CaF2,熔炼过程中加入经500℃~800℃下保温4~8小时的电渣渣料,电渣渣料的加入量为自耗电极棒质量的3%~4%,所述的电渣渣料由Na3AlF6、NaCl及KCl组成,电渣渣料组份的质量百分数为:20%~30%Na3AlF6、25%