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(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115488708A(43)申请公布日2022.12.20(21)申请号202211058779.3(22)申请日2022.08.31(71)申请人北京航天控制仪器研究所地址100854北京市海淀区北京142信箱403分箱(72)发明人黎一凡姜雪冬王兰江陈阳周贺葛新伟田迎发宋大海(74)专利代理机构中国航天科技专利中心11009专利代理师张丽筠(51)Int.Cl.B24B5/48(2006.01)B24B41/04(2006.01)B24B55/12(2006.01)权利要求书2页说明书5页附图5页(54)发明名称一种内圆磨床的排屑组件和内圆磨床(57)摘要本申请涉及内圆磨床的领域,具体公开了一种内圆磨床的排屑组件,包括:转接支撑座,安装于内圆磨床,转接支撑座还用于安装砂轮;导屑件,包括相连的安装部和环绕部,安装部固定于转接支撑座,环绕部围绕砂轮的部分外周,砂轮的剩余外周与环绕部的缺口相对设置,以使砂轮穿过缺口与待磨削工件接触。本申请提供的排屑方案有利于减少磨屑残留堆积在待磨屑工件的表面。CN115488708ACN115488708A权利要求书1/2页1.一种内圆磨床的排屑组件,其特征在于,包括:转接支撑座(1),所述转接支撑座(1)安装于所述内圆磨床,所述转接支撑座(1)还用于安装砂轮(3);导屑件(2),所述导屑件(2)包括相连的安装部(21)和环绕部(22),所述安装部(21)固定于所述转接支撑座(1),所述环绕部(22)围绕所述砂轮(3)的部分外周,所述砂轮(3)的剩余外周与所述环绕部(22)的缺口相对设置,以使所述砂轮(3)穿过所述缺口与待磨削工件(4)接触。2.根据权利要求1所述的排屑组件,其特征在于,所述环绕部(22)包括第一端部(23)和第二端部(24),所述第一端部(23)和所述第二端部(24)用于靠近所述待磨削工件(4)设置,所述第一端部(23)位于所述砂轮(3)的上方,所述第二端部(24)位于所述砂轮(3)的下方,所述第一端部(23)与所述砂轮(3)之间的间距大于所述第二端部(24)与所述砂轮(3)之间的间距。3.根据权利要求2所述的排屑组件,其特征在于,所述第一端部(23)和所述第二端部(24)的连线(26),位于所述砂轮(3)的用于与所述待磨削工件(4)接触的位置(27)与所述砂轮(3)的轴线之间。4.根据权利要求2或3所述的排屑组件,其特征在于,沿所述砂轮(3)的轴线方向投影,所述第一端部(23)的投影位置、所述砂轮(3)的用于与所述待磨削工件(4)接触的位置(27)的投影位置、所述第二端部(24)的投影位置,三者所定义的圆的半径r1小于所述待磨削工件(4)的内孔半径r2。5.根据权利要求2或3所述的排屑组件,其特征在于,所述环绕部(22)还包括第三端部(25),所述第三端部(25)位于所述第二端部(24)的远离所述待磨削工件(4)的一侧,且所述第三端部(25)位于所述砂轮(3)的轴线的下方,所述第二端部(24)与所述砂轮(3)的轴线的间距小于所述第三端部(25)与所述砂轮(3)的轴线的间距。6.根据权利要求1所述的排屑组件,其特征在于,所述转接支撑座(1)具有支撑杆,所述支撑杆沿所述砂轮(3)的轴线延伸,所述安装部(21)具有第一调节通孔(28),所述安装部(21)通过穿过所述第一调节通孔(28)的第一锁紧件(12)固定于所述支撑杆,所述第一调节通孔(28)的可调节方向垂直于所述砂轮(3)的轴线。7.根据权利要求6所述的排屑组件,其特征在于,所述安装部(21)还具有第二调节通孔(29),所述安装部(21)通过穿过所述第二调节通孔(29)的第二锁紧件(13)固定于所述支撑杆,所述第二调节通孔(29)的可调节方向垂直于所述砂轮(3)的轴线;其中,所述第一锁紧件(12)锁紧所述第一调节通孔(28)的位置,与所述第二锁紧件(13)锁紧所述第二调节通孔(29)的位置,二者的相对位置用于调节所述环绕部(22)的环绕轴线相对于所述砂轮(3)的轴线的倾角。8.根据权利要求1所述的排屑组件,其特征在于,所述待磨削工件(4)的材料为磁性材料,所述导屑件(2)的材料为无磁性材料。9.根据权利要求1所述的排屑组件,其特征在于,所述导屑件(2)的材料为钛合金。10.根据权利要求1所述的排屑组件,其特征在于,所述转接支撑座(1)用于固定于所述内圆磨床的砂轮架接口。11.一种内圆磨床,其特征在于,所述内圆磨床包括砂轮(3)和如权利要求1至10中任一2CN115488708A权利要求书2/2页项所述的排屑组件。3CN115488708A说明书1/5页一种内圆磨床的排屑组件和内圆磨床技术领域[0001]本申请涉及内圆磨床的领域,特别是一种内圆磨床的排屑组件和内圆磨