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BST薄膜的直接感光法图形化及其性能研究的开题报告
摘要：
BST（BaSrTiO3）是一种具有非常高介电常数、铁电性和光学性质的陶瓷材料，被广泛应用于电子器件、光学器件等领域。其中，BST薄膜具有很好的光电性能，可以通过直接感光法制备出具有一定结构特征的图案，可用于光电器件等领域。本文拟对BST薄膜的直接感光法图形化及其性能进行研究。
关键词：BST薄膜，直接感光法，图形化，光电性能
一、研究背景和意义
随着纳米技术和微纳技术的发展，光学器件和光电器件越来越受到人们的关注，而高介电常数、铁电性和光学性质的陶瓷材料被广泛应用于电子器件、光学器件等领域。BST（BaSrTiO3）是一种具有这些特性的材料，其应用前景非常广阔。其中，BST薄膜具有很好的光电性能，可以通过直接感光法制备出具有一定结构特征的图案，可用于光电器件等领域。因此，对BST薄膜的直接感光法图形化及其性能进行研究具有重要的科学意义和应用价值。
二、研究内容和方案
本研究旨在通过直接感光法制备BST薄膜，并对其进行图形化和性能研究，具体研究内容和方案如下：
1.BST薄膜制备
采用射频磁控溅射法在K9玻璃基板上制备BST薄膜，具体工艺条件如下：
Feedingtargets:BaO，SrOandTiO2
Substratematerial:K9glass
Sputteringtemperature:700℃
Argongaspressure:2.0Pa
Sputteringpower:150W
2.直接感光法制备BST薄膜图案
采用直接感光法制备BST薄膜图案，具体方法如下：
（1）BST薄膜表面覆盖一层UV感光剂。
（2）在感光剂表面上，利用光掩膜技术进行光刻，去除部分感光剂。
（3）进行紫外光照射，在未被去除的感光剂表层形成具有一定结构特征的图案。
3.BST薄膜性能测试
（1）利用XRD对BST薄膜进行晶体结构分析。
（2）采用原子力显微镜（AFM）对BST薄膜进行表面形貌和粗糙度分析。
（3）在光掩膜上，采用紫外光照射和微波烧结技术进行退火，并分析其对BST薄膜性能的影响。
4.研究结果及意义
通过研究，本文将获得如下成果：
（1）成功制备出BST薄膜，并通过XRD分析其晶体结构。
（2）采用直接感光法制备出了BST薄膜具有一定结构特征的图案。
（3）利用原子力显微镜分析了BST薄膜的表面形貌和粗糙度，并对退火对其性能的影响进行了分析。
（4）研究结果表明，BST薄膜具有良好的光电性能，可用于光电器件等领域。
通过本文的研究，可以为进一步研究BST薄膜的光电性能提供参考，推动其在光电器件等领域的应用。