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镍薄膜反常霍尔效应的研究的开题报告
一、选题背景
反常霍尔效应是指在恒定磁场下，金属或半导体中的电子在电场作用下发生偏转和漂移，导致横向出现电场和电势差，从而形成霍尔电势。在普通材料中，受电场作用的电子的霍尔电势与电流方向成正比，且与温度无关。然而，在某些材料中，霍尔电势与电流方向垂直，且与温度有关，这种现象被称为反常霍尔效应。
在实际应用中，反常霍尔效应常用于材料的性质表征和磁场传感器等器件的制作。而作为一种独特的材料，镍薄膜在反常霍尔效应方面的研究也具有重要意义。因此，本研究将重点探究镍薄膜反常霍尔效应的相关性质。
二、研究目的
本研究旨在探究镍薄膜在反常霍尔效应方面的表现和特性，并进一步探究不同温度下的反常霍尔效应对材料性质的影响。
三、研究内容
1.镍薄膜制备及样品制备
使用物化气相沉积技术（PVD）在玻璃基底上制备镍薄膜，并对样品进行切割和处理。
2.反常霍尔效应实验
使用霍尔效应测量系统对不同大小的样品进行反常霍尔效应实验，在不同磁场和不同温度下记录霍尔电势和电阻率，并分析其表现和特性。
3.实验数据分析及讨论
对实验数据进行分析，并探究不同温度下反常霍尔效应对镍薄膜的影响。同时与理论预测进行比较和讨论。
四、预期成果
通过实验和数据分析，本研究预计能够：
1.探究镍薄膜在反常霍尔效应方面的表现和特性；
2.确定不同温度下反常霍尔效应对镍薄膜的影响；
3.提供镍薄膜反常霍尔效应方面的实验数据和理论基础。
五、研究意义
本研究将拓宽理解反常霍尔效应的材料范围，探究镍薄膜的性质，为反常霍尔效应的应用提供良好的材料基础。同时，本研究还将有益于加深对材料物理学和电子学的理解，为相关学科的研究提供新的思路和方法。