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專利與技術報告
1.陳松德、陳錦山、楊聰仁、李丕耀、劉堂傑、楊文祿、邱國峰,中華民國發明專利,發明第I240967號,'低介電常數薄膜之電漿表面鈍化改質處理方法',專利期間2005.10-2023.05
研討會論文
1.陳松德、唐英森、陳錦山，“有機矽氧烷聚合物之N2/H2混合電漿鈍化製程對銅擴散阻礙行為研究”，中華民國材料年會，崑山科技大學，PL-052(2003)。
2.田慧仙、廖文祿、陳松德、陳錦山，“傳統磁控與離子化金屬電漿磁控濺鍍鎢薄膜之相變化－基材偏壓效應”，中華民國材料年會，崑山科技大學，PL-050(2003)。
3.陳松德、陳錦山，“低k介電混合有機矽氧烷聚合物在氧氫氮電漿中之行為研究”，中華民國材料年會，台灣大學，PG-22(2002)。
4.陳松德、方彥翔、鍾松畛、楊聰仁、陳錦山，“混合有機矽氧烷聚合物低介電層在氧電漿中之反應行為研究”，中華民國材料年會，中興大學，P08-25(2001)。
5.陳松德、林彥偉、陳錦山、楊聰仁，“底層材料對無電鍍銅之影響”，中華民國材料年會，義守大學，H-76P(2000)。
6.陳松德、府玠辰、簡仲毅、陳錦山、黃獻慶，“單層與複層氮化鉭（Ta2N/TaN）薄膜在銅金屬化製程之擴散阻礙性質研究”，中華民國材料年會，義守大學，H-59P(2000)。
1.S.T.Chen,G.S.Chen,T.J.Yang,P.Y.Lee,andT.J.Liu,W.L.Yang,andK.F.Chiu,Plasmapassivationoflow-dielectric-constantthinfilms,ROCPatentNo.I240967,2005/102023/05.
ConferencePaper
1.S.T.Chen,I.S.Tan,andG.S.Chen,ThesynergisticeffectofN2/H2gasesintheplasmapassivationofsiloxane-basedlow-kpolymerfilmsforcoppermetallization,The2003AnnualConferenceoftheChineseSocietyforMaterialsScience,Kun-ShanUniversity,PL-052(2003).
2.H.S.Tian,W.L.Liao,S.T.Chen,andG.S.Chen,Phasetransformationoftungstenfilmsdepositedbydiodeandinductivelycoupledplasmamagnetronsputtering,The2003AnnualConferenceoftheChineseSocietyforMaterialsScience,Kun-ShanUniversity,PL-050(2003).
3.S.T.ChenandG.S.Chen,Plasmabehaviorsofsiloxane-basedlow-kpolymericfilms:acomparisonofsingleandmixed(O2/H2/N2)gassources,The2002AnnualConferenceoftheChineseSocietyforMaterialsScience,NationalTaiwanUniversity,PG-22(2002).
4.S.T.Chen,Y.H.Fang,S.Z.Chung,T.J.Yang,andG.S.Chen,Effectofoxygenplasmatreatmentsonhybrido-organosiloxanepolymerfilms,The2001AnnualConferenceoftheChineseSocietyforMaterialsScience,NationalChungHsingUniversity,P08-25(2001).
5.S.T.Chen,Y.W.Lin,G.S.Chen,andT.J.Yang,Theeffectofcatalyticunderlayerforelectrolesscoppermetallization,The2000AnnualConferenceoftheChineseSocietyforMaterialsScience,I-ShouUniversity,H-76P(2000).
6.S.T.Chen,C.C.Fu,C.I.Jian,G.S.Chen,andS.C.Huang,Diffusionbarrierpropertiesofsingle-andmulti-layeredtantalumnitride(Ta2N/TaN)thinfilmsagainstcopperpenetrati