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【电镀】

脉冲电镀镍及其性能的研究

周丽，于锦*，马安远

（沈阳工业大学理学院，辽宁沈阳110178）

摘要：采用瓦特镀镍液，研究了脉冲占空比、平均电流密度、
温度对电沉积速率、镀层光亮度和镀层在的溶液
w=3.5%NaCl1前言
中耐蚀性的影响。用扫描电镜研究了直流和脉冲镍镀层的表面
形貌。结果表明：电沉积速率随脉冲占空比、平均电流密度及电镀镍广泛应用在汽车、机械、仪表及日用工业
温度的增大而加快；镀层耐蚀性、光亮度随脉冲占空比增大而品中，作为防护装饰性镀层或者作为镀金、镀铬的中
变差，随温度、平均电流密度的增大先变好后变差。较佳脉冲
间层[1-2]，至今已有100多年的历史。随着科学技术的
电镀条件为：平均电流密度0.75A/dm2，脉冲占空比5%，温度
发展及电镀镍的工艺不断完善，镍沉积层的性能也不
45~50°C，pH2.5~3.0。X射线衍射分析结果表明，与直流镀
[1,3-4]
镍相比，脉冲镍镀层在(111)晶面存在择优取向，镀层更致密，断得到提高，大大扩展了电镀镍产品的应用领域。
性能更好。大量的科学研究及实践证明，脉冲电镀作为槽外
关键词：镍；脉冲电镀；耐蚀性；光亮度控制镀层性能的一种新技术，与直流电镀相比具有许
中图分类号：TQ153.12文献标志码：A
多优点，如降低沉积层的孔隙率，提高镀层光亮度，
文章编号：1004–227X(2009)11–0005–04
Studyonpulsenickelplatinganditsproperty//ZHOU使镀层均匀致密、导电率高，提高镀层的耐腐蚀性能，
Li,YUJin*,MAAn-yuan消除氢脆，改善镀层分散能力等[5-8]。本文考察了脉冲
Abstract:Theeffectsofpulsedutycycle,averagecurrent平均电流密度、脉冲占空比、温度对电沉积速率及镍
densityandtemperatureonelectrodepositionspeed,
镀层在NaCl介质中的耐蚀性的影响，研究了较佳脉冲
brightnessandcorrosionresistancein3.5%(massfraction)
NaClsolutionofnickelcoatingwerestudiedwithaWatts-参数下镀层的晶体结构。
typenickelelectroplatingbath.Thesurfacemorphologywas2实验
characterizedbyscanningelectronmicroscopy.Theresults
showedthattheelectrodepositionspeedwasincreasedwith2.1材料与仪器
increasingpulsedutycycle,averagecurrentdensityand采用瓦特镍配方，实验材料为：硫酸镍，氯化镍，
temperature.Thecorrosionresistanceandbrightnesswere硼酸，十二烷基硫酸钠，添加剂，硫酸，盐酸，NaCl。
decreasedwithincreasingpulsedutycycle,whilethey
实验仪器为：SMD-30型数控脉冲/直流电镀电源(河北
becamebetteratfirstandworsethereafterwiththeincrease
oftemperatureandaveragecurrentdensity.Theoptimal省邯郸市大舜电镀设备有限公司)，BDX3200型X射
platingconditionsareasfollows:averagecurrentdensity线衍射仪(北京大学仪器厂)，CHI604C电化学测试仪
2
0.75A/dm,pulsedutycycle5%,temperature45-50°C,pH(上海辰华仪器公司)，恒温水浴锅，JB50-D型增力动
2.5-3.0.Comparedwithdirect-currentnickelplating,the
力搅拌器(上海标本模型厂)
pulse-platednickelhaspreferentialorientationwith(111).
X-raydiffractionanalysisshowedthatthedepositofpulse2.2试样制备
nickelplatingismorecompactandhasbetterperformance.试样在电镀前的表面状态及洁净程度对镀层的质
Keywords:nickel;pulseelectroplating;corrosionresistance;量有很重要的影响，因此，试样在电镀前要经过打磨
brigh