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名词解释题 数值孔径:由物体与物镜间媒介的折射率n与物镜孔径角的一半的正弦值的乘积。 干涉面:面间距为dHKL的晶面并不一定是晶体中的原子面,而是为了简化布拉格方程所引入的反射面,我们把这样的反射面称为干涉面。 干涉指数:干涉面的面指数称为干涉指数,是对空间方位与晶面间距的标识。 景深:当像平面固定时(象距不变)不变时,能维持物象清晰的范围内,允许物平面(样品)沿透镜主轴移动的最大距离。 焦长:固定样品条件下(物镜不变),像平面沿主轴移动时仍能保持物象清晰的距离范围。 差热分析:是指在程序控温下,测量样品和参比物的温度差与温度关系的一种热分析方法。 质谱:质谱(又叫质谱法)是一种与光谱并列的谱学方法,是离子数量(强度)对质荷比的分布,以质谱图或质谱表的形式表达。 晶带:晶体中,与某一晶相【uvw】平行的所有晶面(hkl)属于同一晶带,称为【uvw】晶带。 倒易点阵:倒易点阵是由晶体点阵按照一定的对应关系建立的空间点阵,此对应关系可称为倒易变换。 透镜分辨率:用物理学方法(如光学仪器)能分清两个密切相邻物体的程度。 衍射衬度:若样品上不同区域的衍射条件不同,图像上相应区域的亮度将有所不同,这样就在图像上便形成了衍射衬度。 差示扫描量热法:在程序控制温度下,测量输入给样品和参比物的功率差与温度关系的一种热分析方法。 埃利斑:由于衍射效应的作用,电光源在像平面上得到的并不是一个点,而是一个中心最亮,而周围带有明暗相间的同心圆环的圆斑 Kα射线:把K层电子所激发的过程称为K系激发,电子跃迁所引起的辐射称为K系辐射。跨越一级用α表示,即Kα射线。 质厚衬度:非晶样品透射电子显微图像衬度是由于样品不同微区间存在的原子序数或厚度的差异而形成的,即质量厚度衬。 填空题 1)光学光学系统包括(目镜)、(物镜)、光源及(聚光器)。 2)通常有三种抛光的方法,即(机械抛光)、(电解抛光)、(化学抛光)。 3)通常透射电镜由(成像系统)、电源系统、(记录系统)、循环冷却系统和(真空系统)组成(照明系统) 4)材料性能主要决定于其(化学成分)、(物相组成)、(宏观及微观结构)。 5)德拜相机底片安装方法包括(正装法)、(反装法)、(偏装法。 6)按入射电子能量的大小,电子衍射可分为(高能电子衍射)、(低能电子衍射)及(反射式高能电子衍射)。 7)常用的热分析法有(差热分析法DTA)、(差示扫描量热法DSC)、(热重法TG)及动态热机械法和热机械分析法。 8)质谱分析可用于测定化合物的(相对分子质量),推测(分子式)和(结构式)。 9)光谱分析仪器主要由(光源)、(光谱仪)及(检测器)。 10)主要的物相分析手段有三种:(X射线衍射)、(电子衍射)、(中子衍射)。 11)表面形貌分析技术经历了(光学显微分析)、(透射电镜分析)、(扫描探针显微镜分析)的发展过程。 12)按照出射信号的不同,成分分析手段可以分为两类:(x光谱)和(电子能谱),出射信号分别是(x射线,电子)。 13)电子能谱包括(光电子能谱)、(俄歇电子能谱)、(电子能量损失能谱), (离子中和谱)。 14)获取衍射花样的三种基本方法是(劳埃法)(周转晶体法)(粉末法) 15)依据差热分析曲线特征,可定性分析物质的(物理或化学)变化过程,还可依据(峰面积)半定量的测定(反应热)。 16)入射X射线可使样品产生(相干散射)和(非相干散射)。(相干散射)是X射线衍射分析方法的技术基础。 17)光谱分析方法包括各种(吸收光谱分析)和(发射光谱分析)以及(散射光谱分析) 18)阿贝成像原理可以简单地描述为两次(衍射):平行光束受到有周期性特征物体的衍射作用形成(衍射波),各级衍射波通过(物镜)重新在像平面上形成反映物的特征的像。 19)衍射波的两个基本特征—衍射线在空间分布的(方位)和(强度),与晶体内原子(分布规律)密切相关。 20)利用电磁线圈激磁的电磁透镜,通过调节(磁电流)可以很方便地调节(磁场强度),从而调节(透镜焦距和放大倍数)。 21)热电偶实际上是一种(温度传感装置),它将热能转换为(电能),利用所产生的(电动势信号)测量温度。 22)材料分析的三个基本方面:(成分分析)、(结构分析)和(形貌分析)。 23)光学透镜的像差包括(球差)、(色差)及(像散)。 判断题 1)、埃利斑半径与照明光源波长成反比,与透镜数值孔径成正比。(错) 2)孔径角与物镜的有效直径成正比,与焦点的距离成反比。(对) 3)、NA值越大,照明光线波长越长.分辨率就越高。(错) 4)、有效放大倍数与仪器可以达到的放大倍数不同,前者取决于仪器分辨率和人眼分辨率,而后者仅仅是仪器的制造水平。(对) 5)、倒易点阵中的一个点代表的是正点阵中的—组晶面。(对) 6)、透射电子显微镜的分辨率主要受衍射效应