氧化锌薄膜热退火特性的研究.pdf

2024-08-15

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快速热退火多晶硅薄膜压阻特性研究.pdf

2024-08-15

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InN薄膜的退火特性.pdf

第27卷第2期半导体学报Vol.27No.22006年2月CHINESEJOURNALOFSEMICONDUCTORSFeb.,2006InN薄膜的退火特性3谢自力­张荣修向前毕朝霞刘斌濮林陈敦军韩平顾书林江若琏朱顺明赵红施毅郑有(南京大学物理系江苏省光电功能材料重点实验室,南京210093)摘要:对InN薄膜在氨气氛下的高温退火行为进行了研究.利用XRD,SEM和XPS对样品进行了分析.结果表明,InN薄膜的结晶质量和表面形貌并不随退火温度单调变化.由于高温退火时N原子的挥发,剩下的In原子在样品表面聚

2024-08-15

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纳米氧化锌薄膜的特性及研究进展.docx

纳米氧化锌薄膜的特性及研究进展摘要纳米氧化锌薄膜具有独特的光电学、电化学、化学和物理性能，因此在光电器件、储能器件、生物传感器等领域受到广泛关注。本文综述了纳米氧化锌薄膜的制备方法、特性及应用领域等方面的研究进展，并讨论了其存在的问题与未来的发展方向。关键词：纳米氧化锌薄膜、制备方法、特性、应用领域引言氧化锌是一种重要的氧化物半导体材料，具有宽带隙、高电子迁移率、低成本等优点，因此在光电器件、储能器件、生物传感器等领域具有广泛的应用前景。随着纳米技术的发展，纳米氧化锌薄膜的制备和性能研究成为当前研究的热点

2024-11-03

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快速热退火制备多晶硅薄膜的研究.docx

快速热退火制备多晶硅薄膜的研究随着信息时代的快速发展，多晶硅材料在光电子器件领域中具有重要的应用价值。然而，多晶硅材料制备过程中晶界、缺陷等问题一直困扰着研究人员。为此，快速热退火制备多晶硅薄膜成为当下研究的热点之一。本文将介绍快速热退火制备多晶硅薄膜的研究进展和应用前景。1.快速热退火制备多晶硅薄膜的原理快速热退火在多晶硅薄膜制备中起到了至关重要的作用。快速热退火是在快速加热的条件下，使多晶硅材料中的缺陷和非晶态区域重新结晶，形成均匀的晶粒，从而提高了多晶硅薄膜的结晶度和质量。快速热退火还可以有效地减少

2024-11-14

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