微区微纳米压印技术及设备.pdf

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微区微纳米压印技术及设备micr伊ar昀IIlicro／nan伊imprinting申溯，周雷，魏国军，陈林森光学精密工程(苏州大学信息光学工程研究所，江苏苏州215006)distributedDesignoflitLei，WEI微区微纳米压印的技术设想，并以提高压印稳定性和设计可旋转压印头为目标，设计了气动驱动装置和压印头结构。然为应用实例，介绍了分布微区微纳米压印技术与设备的可能应用领域。实验结果表明，在1Guo．jo，J竹．厂0，‘优口fiD，z(功￡ifnZmicro／nanomicro／micro／nano—imprinting第17卷第4期2009年4月文章编号摘要：为了实现在大幅面基底上制作微纳结构，开发了一种新型的分布微区微纳米压印技术和相应的设备。介绍了分布后，通过实验检测了平台运动精度。并在碳酸聚酯材料上热压印了周期为400nm的光栅。最后，以背光模组用光扩散片m的行程范围上，平台位移精度可达loOnm，压印头旋转角度为一90。～90。，压印深度可由加热温度和驱动力大小控制。制作的扩散片厚度为125“m，扩散半径为5mm。微区微纳米压印技术和设备特别适合大幅面光学衍射图像和平板显示器件的微结构制作。关键词：微纳米压印；微结构；热压印；控制中图分类号：TN305．7文献标识码：ASHENSu，ZHoUun，CHEN(172sfi￡“￡PE孢gi以PPri行g，SoDc^otuL切iuPr5i￡y，S“z矗D“215006，C^i打口)Abstract：Tofabricatelarge—formatsubstrate，novelmiro—areananoimprinting1ithographicsystemwaspresented，andthedesignthisimprintingduced．Focusedimprovingstabilityandrealizingrotationmould，thecir—configurationmouldwerediscussedindetail．Bypolycarbonates，thegratingswithperiodnmfabricatedplatformThen，bytakingfabricationdiffusingfilmbacklightflatpaneldisplaysexample，thepotentialapplIcationmicro—arealithographicmethodposed．Theexperimentalresultsindicatethatpositioningprecisionplatfommlongstrokeanglevariesfrom一90。to90。whendepthiscontrolledbyheatingtemperaturepressure．Athickness125肛mfabricated，whoseradiusmm．Theseproposednanoimp“ntingshouldbeespeciallysuitableforopticalvariablediffractionimagesdeVicesusedflat—paneldisplays．Keywords：nanoimprinting；microstructure；hotembossing；control收稿日期：2008一07—16；修订日期：2008一08—12．基金项目：苏州市科技计划科技专项资助项目(No．ZXG0802)opticsPrecisionEngineeringV01．17No．4Apr．20091004—924X(2009)04一0807一06I。in—senintro—gascuit400given．unitpro—1rotating5suggestsstructuresonanuseaas
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Y』分布微区微纳米压印技术的设想光学精密工程引言微纳米压印技术由Princeton大学S．Y．Chou教授在1995年首先提出[1]，并在近年来取得了很大的发展。相比于远(极)紫外光刻、电子／离子束光刻等微纳加工手段，微纳米压印技术具有操作简单、极限分辨率高(<10nm)、重复性好、设备成本相对较低等优点，所以其一经提出就被称为“可能改变世界的十项技术之一”心qJ，并被纳入国际半导体发展蓝图。目前具有代表性的微纳米压印技术主要有4种：热压印、紫外压印、微接触(步进一闪光)压印和激光辅助压印[5]。微纳米压印技术的一般工艺流程是：在基片上涂覆聚合物层，采用某种方式(如加热、紫外辐照等)使聚合物层软化；然后，将带有微纳米图案的刚性压模压印在基片上，等到聚合物凝固后，把压模和基片分离，使压模上的图形转移到聚合物层上；接