铜电解液循环槽.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113638011A(43)申请公布日2021.11.12(21)申请号202110967327.6(22)申请日2021.08.23(71)申请人铜陵有色金属集团股份有限公司地址244100安徽省铜陵市铜官区长江西路有色大院(72)发明人唐文忠梁玮王俊杰(74)专利代理机构合肥诚兴知识产权代理有限公司34109代理人汤茂盛(51)Int.Cl.C25C7/00(2006.01)C25C7/06(2006.01)C25C1/12(2006.01)权利要求书1页说明书2页附图1页(54)发明名称铜电解液循环槽(57)摘要本发明的目的是提供一种阴极铜质量好且结构简单的铜电解液循环槽，进液侧的槽体上设置有补液口，出液侧的槽体上部位置处设置有溢流口，临近溢流口的槽腔内设置有挡板，挡板将槽体分隔电解主槽和溢流槽，挡板的下端位置处设置有过液口，电解液自补液口进入电解主槽内，再经过液口进入溢流槽内。与现有技术相比，电解液循环方式由“下进上出”改变成“上进下出”，这与阳极泥的掉落方向一致，有助于阳极泥掉落至槽底，从而保证阴极板的质量。CN113638011ACN113638011A权利要求书1/1页1.一种铜电解液循环槽，包括槽体(10)，进液侧的槽体(10)上设置有补液口(11)，出液侧的槽体(10)上部位置处设置有溢流口(12)，其特征在于：临近溢流口(12)的槽腔内设置有挡板(13)，挡板(13)将槽体(10)分隔电解主槽(A)和溢流槽(B)，挡板(13)的下端位置处设置有过液口(14)，电解液自补液口(12)进入电解主槽(A)内，再经过液口(14)进入溢流槽(B)内。2.根据权利要求1所述的铜电解液循环槽，其特征在于：挡板(13)板面位于铅垂方向布置且与进/出液侧的槽体(10)槽壁平行，挡板(13)的上端与槽体(10)上槽口固定连接、下端与槽底之间留有余隙，该余隙构成过液口(14)。3.根据权利要求2或3所述的铜电解液循环槽，其特征在于：挡板(13)整体呈上窄下宽的梯形。4.根据权利要求1所述的铜电解液循环槽，其特征在于：挡板(13)由玻璃钢材料制成。5.根据权利要求1所述的铜电解液循环槽，其特征在于：所述的补液口(11)设置在进液侧的槽体(10)上部位置处。2CN113638011A说明书1/2页铜电解液循环槽技术领域[0001]本发明涉及铜冶炼技术领域，具体涉及一种铜电解液循环槽。背景技术[0002]电解精炼工艺装置一般采用不锈钢阴极电解技术，该技术电流密度为220‑300A/m2，其配套使用的电解液循环装置为“电解槽‑电解液循环槽‑电解循环泵‑换热器‑高位槽‑分液器‑电解槽”形式，该工艺技术是当前比较成熟的电解液循环工艺，具有电流效率高、产品质量好、高纯阴极铜合格率高等特点。电解铜时，铜离子在阴极上不断地析出，当溶液中铜离子浓度降低到一定程度后，砷、锑、铋也相继与铜一起在阴极上析出而形成黑铜，为保证电解铜质量，所以应该在硫酸铜电解液循环时，保持浓度稳定，及时补充硫酸铜电解液。[0003]现有技术中的电解液槽的结构如图1所示，在补充液一侧的槽内设置有挡板2，电解液从电解槽1的上方进入电解槽1内，然后从挡板2与槽底之间的通道进入电解槽主体内，另一侧上部位置处的槽体1上设置有溢流口3。同样的，名称为《硫酸铜电解液循环装置》(授权公告号：CN206328469U)的中国专利公开了以下技术方案：如图2所示，电解槽的底部安装布液管，布液管由一根主管和连接主管的两排支管构成，所述支管上均匀分布布液孔，主管连接电解槽的进液管，可根据电解进程，自动补充和调节硫酸铜电解液浓度，从而保证了电解铜产品质量稳定。上述的两种方案中，电解液的给液方式都是“下进上出”的方式，但是在电解精炼过程中，阳极中贵金属和某些金属等不溶解，成为阳极泥从上往下掉落在电解槽槽底，而在“下进上出”循环给液方式电解槽中，电解液的流动方向是自下而上的，这就与阳极泥的沉降方向相反，不利于阳极泥的快速沉降，导致部分阳极泥吸附在阴极板上，阴极铜机械夹杂的银量升高，根据经验，这种“下进上出”循环给液方式电解生产阴极铜含银达到了10～14ppm，影响阴极铜的质量。发明内容[0004]本发明的目的是提供一种阴极铜质量好且结构简单的铜电解液循环槽。[0005]为了实现上述目的，本发明采用的技术方案为：一种铜电解液循环槽，包括槽体，进液侧的槽体上设置有补液口，出液侧的槽体上部位置处设置有溢流口，临近溢流口的槽腔内设置有挡板，挡板将槽体分隔电解主槽和溢流槽，挡板的下端位置处设置有过液口，电解液自补液口进入电解主槽内，再经过液口进入溢流槽内。[0006]与现有技术相比，电解液循环方式由“下进上出”改变成“上进下出”，这与阳极