

显影装置及显影方法.pdf
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显影装置及显影方法.pdf
本申请涉及一种显影装置以及基于该显影装置的显影方法,其中,该显影装置包括:显影腔室,显影腔室设有用于将显影腔室内的气体抽出显影腔室外的抽气管道;载物台,设于显影腔室内,用于支撑晶圆;多个温度传感器,设于载物台上,用于检测多个目标区域的温度;多个相互独立的送气管道,用于向显影腔室输入气体,每个所述目标区域对应至少一个送气管道;控制单元,用于获取各温度传感器的测量温度并计算对应目标区域的当前温度,以及根据目标区域的当前温度调节对应送气管道的气体参数,以使对应目标区域的温度处于预设温度范围内。通过设置多个温度传
显影装置及其显影方法.pdf
本发明涉及一种显影装置及其显影方法,所述显影装置包括晶圆载台、喷涂模块和第一旋转电机,所述晶圆载台用于承载待显影的晶圆,并带动所述晶圆转动;所述喷涂模块包括液体涂布单元和气体吹扫单元;所述第一旋转电机的旋转轴与所述气体吹扫单元固定连接,用于带动所述气体吹扫单元转动,所述第一旋转电机的转动方向包括顺时针方向和逆时针方向。通过改变所述第一旋转电机的转动方向,可以使所述晶圆载台和气体吹扫单元相对反向转动,从而实现比一个旋转电机更快的相对旋转角速度,对晶圆表面进行更快的吹扫,避免了晶圆表面部分区域由于吹扫速度过慢
显影方法和显影装置.pdf
在形成有抗蚀剂膜并曝光后的半导体装置的制造用的基板的面内进行显影处理以使抗蚀剂图案的尺寸的均匀性变高。实施以下工序:对上述的基板的表面供给显影液进行显影的显影工序;接着,为了从上述基板将上述显影液的一部分甩掉除去,以上述基板在绕中心轴的第一旋转方向上旋转的方式,使该基板的转速上升的第一旋转工序;和接着,为了将残留在上述基板的上述显影液从该基板甩掉除去,使上述基板在与上述第一旋转方向相反的第二旋转方向上旋转的第二旋转工序。由此,能够防止基板的面内的各部中的显影时间的不均,所以能够在基板的各部以均匀性高的尺寸
光刻机、显影装置及显影方法.pdf
本公开提供一种光刻机、显影装置及显影方法。该显影装置包括:旋转吸盘,用于支撑晶圆,所述晶圆的表面具有已曝光的光刻胶层;抬放单元,用于将晶圆装载至所述旋转吸盘,或者从所述旋转吸盘上卸载所述晶圆;显影单元,用于旋覆显影液至所述晶圆上以显影所述已曝光的光刻胶层;其中,所述抬放单元包括预设数量的支撑脚,所述支撑脚包括支撑杆和保护帽,所述支撑杆的至少一部分由静电阻断材料制成。本公开中更改了现有显影装置中支撑脚的材质,阻断了静电传输,带静电的晶圆和支撑脚接触时不会产生较高的电压,从而避免晶圆被高压点击造成的损伤,从而
显影装置、制造显影装置的方法、以及图像形成设备.pdf
本发明提供一种显影装置、制造显影装置的方法、以及图像形成设备。所述显影装置包括:磁体辊,其被磁化为具有包括主磁极的多个磁极;套筒,其呈圆筒状并被设置为与所述图像保持体相对;以及支撑架,其以限制所述磁体辊沿切向旋转的方式稳定地支撑所述磁体辊,并且支撑所述套筒以使所述套筒围绕所述磁体辊沿切向旋转。所述磁体辊被设置为,所述主磁极与所述图像保持体相对,并且将所述周面上的如下点相对于所述磁体辊与所述图像保持体最靠近的位置设定在预定位置:在所述点处,在沿所述磁体辊的周面的位置处的所述主磁极的沿切向的磁通密度为零。