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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113866740A(43)申请公布日2021.12.31(21)申请号202111140143.9(22)申请日2021.09.28(71)申请人北京环境特性研究所地址100854北京市海淀区永定路50号(72)发明人管灵殷红成董纯柱朱晨曦陈轩(74)专利代理机构北京格允知识产权代理有限公司11609代理人王文雅(51)Int.Cl.G01S7/41(2006.01)G01R29/08(2006.01)权利要求书2页说明书15页附图3页(54)发明名称集群目标动态电磁散射特性计算方法及装置(57)摘要本发明提供了一种动态群目标电磁散射特性计算方法及装置,其中方法包括:获取待分析集群目标的场景信息;根据所述待分析集群目标的场景信息,生成常量数据;实时获取所述待分析集群目标的每一帧场景,并针对每一帧场景均执行:计算该帧场景对应的变量数据,并利用该帧场景对应的变量数据和所述常量数据,计算生成该帧场景对应的电磁散射特性。本方案,在对每一帧进行计算时,均省却了对常量数据的计算,大大减少了动态电磁散射特性的计算量。CN113866740ACN113866740A权利要求书1/2页1.一种集群目标动态电磁散射特性计算方法,其特征在于,包括:获取待分析集群目标的场景信息;根据所述待分析集群目标的场景信息,生成常量数据;实时获取所述待分析集群目标的每一帧场景,并针对每一帧场景均执行:计算该帧场景对应的变量数据,并利用该帧场景对应的变量数据和所述常量数据,计算生成该帧场景对应的电磁散射特性。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述生成常量数据之前,还包括:根据所述待分析集群目标的场景信息,基于矩量法得到降阶阻抗矩阵方程;所述降阶阻抗矩阵方程为第一矩阵与第二矩阵的乘积等于第三矩阵;其中,所述第一矩阵为MP×MP阶矩阵,所述第二矩阵和所述第三矩阵均为MP×1阶矩阵;其中,P为所述待分析集群目标中包含的子目标数量,M、P均为大于1的整数;针对所述第一矩阵中M2P2个矩阵元素的每一个矩阵元素,将该矩阵元素转换为矢量位项作用项与标量位项作用项之和;其中,所述矢量位项作用项为第一矩阵系数、第一表达矩阵、第二表达矩阵、旋转矩阵和格林函数的乘积;所述标量位项作用项为第二矩阵系数、第三表达矩阵与所述格林函数的乘积;所述旋转矩阵与两个子目标的相对姿态相关,所述格林函数与两个子目标的距离相关;将所述第一矩阵系数、所述第二矩阵系数、所述第一表达矩阵、所述第二表达矩阵和所述第三表达矩阵确定为常量,将所述旋转矩阵和所述格林函数确定为变量。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述生成常量数据,包括:计算所述第一矩阵系数的值,计算所述第一表达矩阵得到第一常量数据,计算所述第二表达矩阵得到第二常量数据;计算所述第二矩阵系数的值;针对所述待分析集群目标中包含的每一种类型的子目标,将该子目标与其它每一类型子目标进行组合,得到Q2个组合;其中,Q为所述待分析集群目标中包含的子目标的类型数量,Q为不大于P的正整数;针对每一个组合,对该组合中的两个子目标进行姿态采样和位置采样,得到若干种采样组合,并对每一种采样组合计算所述第三表达矩阵,得到对应的第三常量数据。4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述计算该帧场景对应的变量数据,包括:针对所述第一矩阵中P2个降阶子矩阵中的每一个降阶子矩阵,确定该降阶子矩阵所对应的两个子目标;根据该帧场景确定该两个子目标的相对姿态和距离,根据该相对姿态计算得到该降阶子矩阵的旋转矩阵,根据该距离计算得到该降阶子矩阵的格林函数;所述利用该帧场景对应的变量数据和所述常量数据,计算生成该帧场景对应的电磁散射特性,包括:针对所述第一矩阵中每一个矩阵元素均执行:将所述第一矩阵系数的值、所述第一常量数据、该矩阵元素所属降阶子矩阵的旋转矩阵、所述第二常量数据和该矩阵元素所属降阶子矩阵的格林函数相乘,得到该矩阵元素的矢量位项作用项;根据该矩阵元素所对应两个子目标的相对姿态和距离,选择对应的第三常量数据,将2CN113866740A权利要求书2/2页所述第二矩阵系数的值、选择的该第三常量数据和该矩阵元素所属降阶子矩阵的格林函数相乘,得到该矩阵元素的标量位项作用项;将该矩阵元素的矢量位项作用项和该矩阵元素的标量位项作用项相加,得到该矩阵元素;根据得到的M2P2个矩阵元素,求解所述降阶阻抗矩阵方程,并根据求解结果得到该帧场景对应的电磁散射特性。5.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据所述待分析集群目标的场景信息,基于矩量法得到降阶阻抗矩阵方程,包括:基于矩量法构建初始阻抗矩阵方程;根据所述待分析集群目标的场景信息,确定所述待分析集群目标中包含的子目标对应的至少一种类型;针对该