水印消除方法、装置和计算机可读存储介质.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114092300A(43)申请公布日2022.02.25(21)申请号202010857473.9(22)申请日2020.08.24(71)申请人中国电信股份有限公司地址100033北京市西城区金融大街31号(72)发明人朱源(74)专利代理机构中国贸促会专利商标事务所有限公司11038代理人刘剑波(51)Int.Cl.G06T1/00(2006.01)G06T5/00(2006.01)G06N3/08(2006.01)权利要求书2页说明书8页附图5页(54)发明名称水印消除方法、装置和计算机可读存储介质(57)摘要本公开提出一种水印消除方法、装置和计算机可读存储介质，涉及计算机技术领域。在本公开中，识别出待处理图像中的水印区域，在水印区域中识别出水印像素点，根据生成的水印像素点的相邻像素点的像素值相关的第一矩阵和生成的平滑度权重相关的第二矩阵，计算生成可以替代水印像素点的像素值的一个目标像素值，从而能够平滑地将待处理图像中的水印消除，水印消除的准确性不依赖模型的训练数据，保证了水印消除的准确性。另外，本公开的实施例不需要训练模型，提高了水印消除的效率。CN114092300ACN114092300A权利要求书1/2页1.一种水印消除方法，包括：识别待处理图像中的水印区域；在所述水印区域中识别出水印像素点；针对所述水印像素点中的第i个水印像素点，生成相关联的第一矩阵和第二矩阵，其中，1≤i≤N，N为识别出的水印像素点总数，所述第一矩阵包括所述第i个水印像素点及第i个水印像素点的相邻像素点的像素值，所述第二矩阵包括所述第一矩阵中每个像素点的平滑度权重；利用所述第一矩阵和所述第二矩阵生成目标像素值；利用目标像素值替代第i个水印像素点的像素值，以消除待处理图像中的水印。2.根据权利要求1所述的水印消除方法，其中，所述利用所述第一矩阵和所述第二矩阵生成目标像素值包括：将所述第一矩阵与所述第二矩阵进行卷积运算，以得到第一结果；将所述第一结果值与所述第二矩阵的元素之和的比值，作为目标像素值。3.根据权利要求2所述的水印消除方法，其中，将所述第一矩阵与所述第二矩阵进行卷积运算包括：将所述第二矩阵作为卷积核，进行预设的翻转处理以得到第三矩阵；将所述第一矩阵与所述第三矩阵进行相乘运算，以完成卷积运算。4.根据权利要求1所述的水印消除方法，其中，生成与第i个水印像素点相关联的第一矩阵包括：将位于水印区域中的水印像素点的所有相邻像素点的像素值构成的矩阵，作为第一矩阵。5.根据权利要求1所述的水印消除方法，其中，生成与第i个水印像素点相关联的第二矩阵包括：在第一矩阵中，在与第j个元素对应的像素点相邻的像素点中，统计出与所述第j个像素点具有相同像素值的像素点个数，1≤j≤M，M为第一矩阵中的元素总数；将所述像素点个数作为第j个元素对应的像素点的平滑度权重；将第一矩阵中的所有元素对应的像素点的平滑度权重构成的矩阵，作为第二矩阵。6.根据权利要求1所述的水印消除方法，其中，识别待处理图像中的水印区域包括：将待处理图像中的水印像素点的密度大于预设密度阈值的区域确定为水印区域。7.根据权利要求1所述的水印消除方法，识别待处理图像中的水印区域包括：在待处理图像中滑动预设的检测窗口，将所述检测窗口所确定的区域作为检测区域；判断检测区域的水印像素点的密度是否大于预设密度阈值；将水印像素点的密度大于预设密度阈值的检测区域，确定为水印区域。8.一种水印消除装置，其中，包括：第一识别模块，被配置为识别待处理图像中的水印区域；第二识别模块，被配置为在所述水印区域中识别出水印像素点；第一生成模块，被配置为针对所述水印像素点中的第i个水印像素点，生成相关联的第一矩阵和第二矩阵，其中，1≤i≤N，N为识别出的水印像素点总数，所述第一矩阵包括所述第i个水印像素点及第i个水印像素点的相邻像素点的像素值，所述第二矩阵包括所述第一2CN114092300A权利要求书2/2页矩阵中每个像素点的平滑度权重；第二生成模块，被配置为利用所述第一矩阵和所述第二矩阵生成目标像素值；水印消除模块，被配置为利用目标像素值替代第i个水印像素点的像素值，以消除待处理图像中的水印。9.一种水印消除装置，其中，包括：存储器；以及耦接至所述存储器的处理器，所述处理器被配置为基于存储在所述存储器中的指令，执行权利要求1-7中任一项所述的水印消除方法。10.一种非瞬时性计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该程序被处理器执行时实现权利要求1-7中任一项所述的水印消除方法。3CN114092300A说明书1/8页水印消除方法、装置和计算机可读存储介质技术领域[0001]本公开涉及计算机技术领域，特别涉及一种水印消除方法、装置和计算机可读