一种清洗剂及其制备方法与应用.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114100376A(43)申请公布日2022.03.01(21)申请号202111430480.1(22)申请日2021.11.29(71)申请人胡翠华地址吉林省四平市梨树县小城子镇爱德村十组(72)发明人王超许显峰胡翠华徐莹王庆双张旭许显威(74)专利代理机构成都方圆聿联专利代理事务所(普通合伙)51241代理人邓永红(51)Int.Cl.B01D65/02(2006.01)权利要求书1页说明书8页(54)发明名称一种清洗剂及其制备方法与应用(57)摘要本发明公开了一种清洗剂及其制备方法与应用，属于水处理技术领域。该清洗剂包括10‑20％除垢剂、5‑10％分散剂、0.5‑5％渗透剂、5‑10％助溶剂、0.5‑3％剥离剂及余量的除盐水。采用本发明制得的清洗剂对反渗透及纳滤膜硅酸钙及其复合垢进行清洗，有效解决了传统强酸清洗对反渗透膜、纳滤膜及金属设备的腐蚀性较大；清洗过程中生成胶体硅，对膜造成二次污染；胶体硅难去除，严重影响硅酸钙的清洗等问题。实现了将硅酸钙及其复合垢反应完全，并分散到清洗液中，同时清洗下的硅不会二次沉积到膜面上，对硅酸钙的去除率在98％以上，最终达到对反渗透膜和纳滤膜及不锈钢设备零损害的目的。同时本发明提供的清洗剂还可以根据实际需求进行在线或离线清洗。具有很好的应用价值和前景。CN114100376ACN114100376A权利要求书1/1页1.一种清洗剂，以质量分数计，包括：10‑20％除垢剂；5‑10％分散剂；0.5‑5％渗透剂；5‑10％助溶剂；0.5‑3％剥离剂；以及余量除盐水。2.根据权利要求1所述的清洗剂，其中：除垢剂选自氨基磺酸、甲基磺酸、羟基乙酸中的任意一种或多种。3.根据权利要求1所述的清洗剂，其中：分散剂选自丙烯酸‑2‑丙烯酰胺‑2‑甲基丙磺酸共聚物、羧酸‑磺酸‑丙烯酸酯三元共聚物、马来酸‑丙烯酸共聚物中的任意一种。4.根据权利要求1所述的清洗剂，其中：渗透剂选自脂肪醇聚氧乙烯醚、磺化琥珀酸二辛酯钠盐中的任意一种。5.根据权利要求1所述的清洗剂，其中：助溶剂选自无水乙醇或丙三醇中的任意一种。6.根据权利要求1所述的清洗剂，其中：剥离剂选自聚季铵盐、十二烷基胍醋酸盐中的任意一种。7.一种制备如权利要求1‑6所述任一清洗剂的方法，包括：除垢剂加入80％的除盐水，搅拌溶解，得第一产物备用；将分散剂加入第一产物中，搅拌均匀，得第二产物备用；将渗透剂和助溶剂混合搅拌均匀，得第三产物备用；将第三产物加入到第二产物中，搅拌均匀，得第四产物备用；把剥离剂加入到第四产物中，补充剩余的除盐水，搅拌均匀，即得。8.一种根据权利要求7所述制备方法制得的清洗剂。9.一种如权利要求1‑6或8所述清洗剂在反渗透或纳滤膜设备中硅酸钙垢污染的应用。10.根据权利要求9所述的应用，包括：在反渗透或纳滤膜设备的清洗水箱中，将清洗剂按照13％‑40％质量浓度配制清洗液；调整设备阀门到在线清洗状态，启动清洗泵运行10‑20min后，待清洗液在系统中循环均匀；检测清洗液的pH值，如pH值在2‑2.5之间则正常清洗；之后每小时检测清洗液的pH值及硅浓度，如pH值升高到2.5以上，则需要向清洗水箱内补充清洗剂至pH值在2‑2.5之间；如pH值稳定不再上升，硅浓度仍在升高，则要继续清洗；直至清洗液pH值稳定在2‑2.5之间，且硅浓度不再升高，则清洗结束。2CN114100376A说明书1/8页一种清洗剂及其制备方法与应用技术领域[0001]本发明属于水处理技术领域，涉及一种清洗剂的制备方法以及采用该制备方法制得的清洗剂，特别是针对反渗透及纳滤膜硅酸钙及其复合垢的清洗剂。背景技术[0002]反渗透技术是一种用压力作为推动力，利用膜的选择透过性实现物质分离的技术。在火力发电厂水处理中，反渗透常用于离子交换的预脱盐，以降低离子交换设备进水含盐量，延长运行周期，减少废酸废碱排放。反渗透系统在运行过程中，由于对水的不断浓缩，水中的垢盐浓度超过其饱和度，在膜内产生硅酸钙及其复合垢，能使膜系统产水量降低，系统压差升高，产水水质变差。硅酸钙及其复合垢较难清洗，不溶于常规浓度的酸、碱溶液，严重时导致膜直接报废。[0003]预处理效果不好的系统，反渗透膜会逐渐被浓水中的无机物、微生物、金属氧化物、胶体和不溶有机物质所污染。水中污染物在膜组件的水流通道沉积后，水流阻力增加、产水量下降和压降上升。污染物还会堵塞膜孔，在压力推动下透过膜进入淡水，引起淡水质量下降。反渗透膜结垢主要是碳酸盐垢、硫酸盐垢和硅酸盐垢，还有少量铁铝硅化合物，其中属硫酸盐垢和硅酸盐垢最难清除。反渗透清洗剂和清洗方法的选择对于反渗透膜污染后的性能恢复及能否达到预期寿命具有重要影响，以免造成长期不可逆的损伤。[0004