一种图像预处理方法、装置、电子设备以及存储介质.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115063299A(43)申请公布日2022.09.16(21)申请号202210995819.0(22)申请日2022.08.19(71)申请人北京睿芯高通量科技有限公司地址100176北京市北京经济技术开发区荣华中路19号院1号楼A座7层711C室(72)发明人杨耀宗张晓辰罗鑫(74)专利代理机构北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)11463专利代理师刘凤(51)Int.Cl.G06T3/40(2006.01)G06T7/90(2017.01)G06V10/32(2022.01)权利要求书3页说明书15页附图4页(54)发明名称一种图像预处理方法、装置、电子设备以及存储介质(57)摘要本公开提供了一种图像预处理方法、装置、电子设备以及存储介质，该方法包括：根据所述标准模型与所述待处理图像之间的宽度比值和高度比值，确定填充方式；按照确定出填充方式，计算对所述待处理图像进行缩放的缩放尺寸和填充偏移量；基于所述缩放尺寸，对所述待处理图像进行缩放，得到缩放图像；基于填充偏移量，计算坐标映射关系，基于所述待处理图像的R、G、B各个通道的颜色值和所述坐标映射关系，在所述标准模型里对所述缩放图像进行填充，得到完成预处理的目标图像。这样，建立待处理图像和标准模型之间的映射关系，可以将待处理图片输入模型中只遍历一次，即可实现图片的缩放和填充，提高了图像处理的效率。CN115063299ACN115063299A权利要求书1/3页1.一种图像预处理方法，其特征在于，所述方法包括：获取用户输入的待处理图像、待处理图像的尺寸、标准模型的尺寸；其中，所述标准模型为对所述待处理图像进行预处理的模型；根据所述标准模型与所述待处理图像之间的宽度比值和高度比值，确定对所述待处理图像进行图像填充的填充方式；其中，所述填充方式包括上下填充方式和左右填充方式；按照确定出的所述待处理图像对应的填充方式，计算对所述待处理图像进行缩放的缩放尺寸和填充偏移量；其中，所述填充偏移量为对待处理图像进行填充的像素点数量；基于计算出的所述缩放尺寸，对所述待处理图像进行缩放，得到缩放图像；根据所述填充偏移量，计算所述缩放图像的像素点对应的坐标与所述待处理图像的像素点对应的坐标之间的坐标映射关系，并基于所述待处理图像的各个通道的颜色值和所述坐标映射关系，在所述标准模型里对所述缩放图像进行填充，得到完成预处理的目标图像。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述标准模型与所述待处理图像之间的宽度比值和高度比值，确定对所述待处理图像进行图像填充的填充方式，包括：根据所述待处理图像的宽度和所述标准模型的宽度，计算所述标准模型与所述待处理图像之间的宽度比值；根据所述待处理图像的高度和所述标准模型的高度，计算所述标准模型与所述待处理图像之间的高度比值；判断所述高度比值是否大于所述宽度比值；若是，则确定所述上下填充方式作为针对所述待处理图像进行图像填充的填充方式；若否，则确定所述左右填充方式作为针对所述待处理图像进行图像填充的填充方式。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，若确定对所述待处理图像进行图像填充的填充方式为上下填充方式，根据以下公式计算针对所述待处理图像进行缩放的缩放尺寸和填充偏移量：其中，为所述待处理图像缩放后的宽度；为所述标准模型的宽度；为所述待处理图像缩放后的高度；为所述标准模型与所述待处理图像的宽度比值；为所述待处理图像的高度；为上下填充方式对应的所述待处理图像各个像素点的填充偏移量；为所述标准模型的高度。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，若确定对所述待处理图像进行图像填充的填充方式为左右填充方式，根据以下公式计算针对所述待处理图像进行缩放的缩放尺寸和填充偏移量：2CN115063299A权利要求书2/3页其中，为所述待处理图像缩放后的宽度；为所述标准模型与所述待处理图像的高度比值；为所述待处理图像的宽度；为所述待处理图像缩放后的高度；为所述标准模型的高度；为所述标准模型的宽度；为左右填充方式对应的所述待处理图像各个像素点的填充偏移量。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，若确定对所述待处理图像进行图像填充的填充方式为上下填充方式，根据以下公式计算所述缩放图像和所述待处理图像的坐标映射关系：其中，为所述待处理图像的像素点的横坐标；为所述待处理图像的像素点的纵坐标；为所述缩放图像的像素点的横坐标；为所述缩放图像的像素点的纵坐标；为所述标准模型与所述待处理图像的宽度比值。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，若确定对所述待处理图像进行图像填充的填充方式为左右填充方式，根据以下公式计算所述缩放图像和所述待处理图像的坐标映射关系：其中，为所述待处理图像的像素点的横坐标；为所述待处