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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114429877A(43)申请公布日2022.05.03(21)申请号202011174433.0(22)申请日2020.10.28(71)申请人重庆达方电子有限公司地址401520重庆市合川区合川工业园区电子产业标准厂房1栋申请人达方电子股份有限公司(72)发明人赖政宏许志和詹金龙(51)Int.Cl.H01H13/83(2006.01)H01H13/705(2006.01)权利要求书2页说明书8页附图13页(54)发明名称按键结构及键盘(57)摘要本发明关于一种按键结构,包含开关及设置于该开关之上的多层结构。该多层结构包含挠性内层、硬质透光盖片及挠性透光层。该挠性内层具有键帽部分及自该键帽部分向外延伸的连接部分。该键帽部分位于该开关之上且形成立体字符结构。该硬质透光盖片设置于该键帽部分上且覆盖该立体字符结构。该挠性透光层覆盖该挠性内层及该硬质透光盖片。一种键盘包含该按键结构及承载该按键结构的装置壳体。该多层结构固定至该装置壳体。该硬质透光盖片比该挠性透光层硬,可保护该立体字符结构,避免长期按压该挠性透光层后损伤该立体字符结构。CN114429877ACN114429877A权利要求书1/2页1.一种按键结构,其特征在于,包含:第一开关;以及多层结构,该多层结构设置于该第一开关之上,该多层结构包含:挠性内层,该挠性内层具有第一键帽部分及自该第一键帽部分向外延伸的连接部分,该第一键帽部分位于该第一开关之上且形成第一立体字符结构;第一硬质透光盖片,该第一硬质透光盖片设置于该第一键帽部分上且覆盖该第一立体字符结构;以及挠性透光层,该挠性透光层覆盖该挠性内层及该第一硬质透光盖片。2.根据权利要求1所述的按键结构,其特征在于,还包含第一键帽,该第一键帽设置于该第一开关之上,且该第一键帽位于该多层结构之下,其中该第一键帽部分覆盖该第一键帽,该第一键帽能沿垂直方向朝向该第一开关移动以触发该第一开关。3.根据权利要求2所述的按键结构,其特征在于,该第一键帽具有水平键面,该第一键帽部分固定设置于该水平键面上,该第一硬质透光盖片于该垂直方向上于该第一键帽上的投影落于该水平键面内。4.根据权利要求3所述的按键结构,其特征在于,该第一键帽具有键裙,该键裙自该水平键面向下弯曲、延伸,该多层结构与该键裙可分开。5.根据权利要求4所述的按键结构,其特征在于,当该第一键帽未被按压时,该第一键帽部分与该键裙间于水平方向上具有空隙。6.根据权利要求1所述的按键结构,其特征在于,该多层结构包含突出物,该突出物朝向该第一开关突出,该多层结构对应该第一键帽部分的部分可被按压,以使该突出物向下移动并触发该第一开关。7.根据权利要求1所述的按键结构,其特征在于,还包含第一弹性复位件,该第一弹性复位件设置于该第一键帽部分及该第一开关之间,其中该多层结构对应该第一键帽部分的部分可被按压,以使该多层结构接触并压挤该第一弹性复位件以触发该第一开关。8.根据权利要求1所述的按键结构,其特征在于,该连接部分围绕该第一键帽部分。9.根据权利要求1所述的按键结构,其特征在于,该多层结构包含硬质框片,该硬质框片具有第一通孔,该连接部分固定设置于该硬质框片上,该第一键帽部分于垂直方向上于该硬质框片上的投影落于该第一通孔内。10.根据权利要求9所述的按键结构,其特征在于,还包含第二开关,其中,该挠性内层具有第二键帽部分,该连接部分连接该第一键帽部分及该第二键帽部分,该第二键帽部分位于该第二开关之上且形成第二立体字符结构,该多层结构包含第二硬质透光盖片,该第二硬质透光盖片设置于该第二键帽部分上且覆盖该第二立体字符结构,该挠性透光层覆盖该第二硬质透光盖片,该硬质框片具有第二通孔,该第二键帽部分于该垂直方向上于该硬质框片上的投影落于该第二通孔内。11.根据权利要求1所述的按键结构,其特征在于,还包含结构框架,其中,该结构框架具有第一窗口,该多层结构固定至该结构框架,该第一键帽部分于垂直方向上于该结构框架上的投影落于该第一窗口内。12.根据权利要求11所述的按键结构,其特征在于,还包含第二开关,其中,该挠性内层具有第二键帽部分,该连接部分连接该第一键帽部分及该第二键帽部分,该第二键帽部分2CN114429877A权利要求书2/2页位于该第二开关之上且形成第二立体字符结构,该多层结构包含第二硬质透光盖片,该第二硬质透光盖片设置于该第二键帽部分上且覆盖该第二立体字符结构,该挠性透光层覆盖该第二硬质透光盖片,该结构框架具有第二窗口,该第二键帽部分于该垂直方向上于该结构框架上的投影落于该第二窗口内。13.根据权利要求1所述的按键结构,其特征在于,该挠性内层由不透光材质制作。14.根据权利要求1所述的按键结构,其特征在于,该第一立