

磁控溅射镀膜生产线.pdf
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磁控溅射镀膜生产线.pdf
磁控溅射镀膜生产线◆摘要:本文介绍了一种成功应用的磁控溅射镀膜生产线计算机监控系统的设计,重点讨论了计算机监控系统的硬件配置、软件设计、通信协议、控制过程实现以及软件编程的控制算法。关键词:磁控溅射镀膜生产线;计算机监控系统;易控(INSPEC);通信协议;控制算法肇庆市大力真空设备有限公司生产的DJW(L)系列卧式(立式)磁控溅射镀膜生产线采用DC电源或中频电源控制平面靶、圆柱旋转靶或中频孪生靶在工件上溅射成膜,广泛应用于各种建筑玻璃、ITO透明导电玻璃、家电玻璃、高反射后视镜及亚克力镀膜等行业。该系列
磁控溅射镀膜生产线.pdf
:本文介绍了一种成功应用的磁控溅射镀膜生产线计算机监控系统的设计,重点讨论了计算机监控系统的硬件配置、软件设计、通信协议、控制过程实现以及软件编程的控制算法。关键词:磁控溅射镀膜生产线;计算机监控系统;易控(INSPEC);通信协议;控制算法肇庆市大力真空设备有限公司生产的DJW(L)系列卧式(立式)磁控溅射镀膜生产线采用DC电源或中频电源控制平面靶、圆柱旋转靶或中频孪生靶在工件上溅射成膜,广泛应用于各种建筑玻璃、ITO透明导电玻璃、家电玻璃、高反射后视镜及亚克力镀膜等行业。该系列生产线在吸收欧洲同类生产
磁控溅射镀膜工艺.doc
[汇总]磁控溅射镀膜工艺大面积磁控溅射工艺1、简介在玻璃或卷材上制备旳用于建筑、汽车、显示屏和太阳能应用旳光学多层膜是运用反应磁控溅射以具有可反复旳稳定旳高沉积率进行生产旳。在整个基底宽度上旳良好膜厚均匀性和合适旳工艺长期稳定性是为了满足生产规定所必须旳。动态沉积率(镀膜机旳生产率),膜旳化学成分和工艺稳定性(包括膜厚分布旳临界参数和起弧行为)都需要使用对于大面积光学镀膜旳先进旳工艺稳定技术。这意味着对于研制旳高规定存在于大面积反应磁控溅射工艺。对于把在试验室条件下开发旳工艺转移到大规模工业镀膜机这个过程
磁控溅射镀膜原理及工艺.doc
PAGE\*MERGEFORMAT8磁控溅射镀膜原理及工艺摘要:真空镀膜技术作为一种产生特定膜层的技术,在现实生产生活中有着广泛的应用。真空镀膜技术有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。这里主要讲一下由溅射镀膜技术发展来的磁控溅射镀膜的原理及相应工艺的研究。关键词:溅射;溅射变量;工作气压;沉积率。绪论溅射现象于1870年开始用于镀膜技术,1930年以后由于提高了沉积速率而逐渐用于工业生产。常用二极溅射设备如右图。通常将欲沉积的材料制成板材-靶,固定在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上,距靶一定距
磁控溅射镀膜技术.ppt
镀膜讲义一、膜层的要求太阳能集热管内管外壁膜层的要求二、磁控溅射镀、膜层组织特点(二)膜层组织特点三、膜层的质量保证镀膜设备的一般要求四、磁控溅射镀膜技术及设备磁控溅射原理的要点(二)对磁控溅射靶的要求(三)平面靶的结构平面靶的结构(四)柱靶结构旋管型柱靶结构(五)三靶镀膜机抽气机组的阀大部分为气动挡板阀,光栅阀为电动,其控制较好,可以停在任意位置。光栅阀抽真空时全打开,镀膜时关到某一合适位置,其主要作用是镀膜时Ar气工作压力为5×10-1pa左右,此压强段,扩散泵抽速不稳,调节光栅阀可以让扩散泵工作较稳