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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114271168A(43)申请公布日2022.04.05(21)申请号202111602362.4(22)申请日2021.12.24(71)申请人上海绿立方农业发展有限公司地址200120上海市浦东新区人民塘路3832弄50号4幢(72)发明人张样平肖长城王凯顾思佳顾志国(74)专利代理机构安徽知问律师事务所34134代理人金贝贝(51)Int.Cl.A01G22/35(2018.01)A01G24/28(2018.01)A01G24/15(2018.01)A01G25/06(2006.01)A01C23/02(2006.01)权利要求书1页说明书4页(54)发明名称一种韭菜基质栽培方法(57)摘要本发明公开了一种韭菜基质栽培方法,属于植物生产领域。本发明的栽培方法通过铺设由泥炭与珍珠岩均匀混拌而成的栽培基质,并铺设土埋式滴灌系统相配合滴灌,可减少韭菜栽培过程中韭蛆的发生率,降低韭菜农药超标的风险,同时有效避免了传统土培方式所带来的重金属含量高、土壤重茬连作障碍的问题。本发明克服了目前水培方式种植韭菜前期建设成本较高、难以快速推广的情况,建设成本较低,且操作较为简单,适宜推广应用。CN114271168ACN114271168A权利要求书1/1页1.一种韭菜基质栽培方法,其特征在于,包括:S1、温室内挖种植畦,并在种植畦内铺设透气透水的黑色地布;S2、将泥炭与珍珠岩均匀搅拌作为栽培基质,将栽培基质均匀铺设于地布上;S3、在栽培基质上铺设滴灌带,然后在滴灌带上继续铺设栽培基质;S4、将韭菜根用杀菌剂浸泡后沥干,并按照一定种植密度定植定植在栽培基质中,然后持续养根,养根期间采用清水与营养液交替灌溉;S5、养根结束后对韭菜地上部分采收处理,开始正式栽培收获阶段,栽培期间视墒情用营养液灌溉,每3‑4周收获一茬。2.根据权利要求1所述的一种韭菜基质栽培方法,其特征在于:S2中将泥炭与珍珠岩按(1.5‑3):1的体积比例混匀成栽培基质,在栽培基质上浇水,使混栽培基质呈湿润状态,可手握成团但不滴水。3.根据权利要求1所述的一种韭菜基质栽培方法,其特征在于:S2中地布上还首先铺设有有机颗粒肥作为底肥,底肥上再铺设栽培基质。4.根据权利要求2所述的一种韭菜基质栽培方法,其特征在于:S2中栽培基质铺设厚度为10‑15cm,S3中的栽培基质铺设厚度为5‑10cm。5.根据权利要求1所述的一种韭菜基质栽培方法,其特征在于:S3中在滴灌带上继续铺设栽培基质时,滴灌带要保持滴灌孔向上、互相平行的状态,铺设完成后将栽培基质表面处理平整,使栽培基质厚度保持一致。6.根据权利要求3所述的一种韭菜基质栽培方法,其特征在于:S3中滴灌带放置在上层栽培基质下方至少5cm处,滴灌带保持均匀平行铺设,保持间距10‑15cm。7.根据权利要求1所述的一种韭菜基质栽培方法,其特征在于:S4中韭菜根选择健康无病害植株,消毒浸泡时没过根部即可,避免浸泡叶片部分;每穴定植的韭菜根株数不超过5株,栽培基质上表面超出韭菜根基部2‑3cm。8.根据权利要求1所述的一种韭菜基质栽培方法,其特征在于:S4中养根时间为夏季,养根期间清水和营养液交替灌溉,每周灌溉1‑2次,营养液的EC值为1‑1.5,pH为5‑7,每次灌溉时间为25‑35min。9.根据权利要求7所述的一种韭菜基质栽培方法,其特征在于:S4中将韭菜根用杀菌剂浸泡10‑20min沥干,并按照行距10‑15cm、穴距5‑10cm的种植密度定植在栽培基质中。10.根据权利要求1‑9任一项所述的一种韭菜基质栽培方法,其特征在于:S5中养根结束后采收处理的第一茬韭菜叶不可作为商品出售,开始正式栽培收获期后,每周用营养液灌溉1‑2次,每次灌溉时间为25‑35min,营养液EC值为1.6‑2.0左右,pH控制在5.5‑6.0之间。2CN114271168A说明书1/4页一种韭菜基质栽培方法技术领域[0001]本发明涉及植物生产技术领域,更具体地说,涉及一种韭菜基质栽培方法。背景技术[0002]韭菜(Alliumtuberosum),属百合科多年生宿根草本蔬菜,适应性强,抗寒耐热,在全国均有分布,深受消费者的喜爱。韭菜具有丰富的营养价值和经济价值。韭菜的主要营养成分有维生素C、维生素B1、维生素B2/尼克酸、胡萝卜素、碳水化合物及矿物质。韭菜还含有丰富的纤维素,可以促进肠道蠕动、预防大肠癌的发生,同时又能减少对胆固醇的吸收,起到预防和治疗动脉硬化、冠心病等疾病的作用。韭菜独特的辛香味是其所含的硫化物所形成的,这些硫化物有一定的杀菌消炎作用,有助于人体提高自身免疫力。[0003]近年来关于韭菜产品的农药残留超标事件频发,纠其原因还是韭菜生产过程中过度使用农药所致,这