触控显示基板及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108415614A(43)申请公布日2018.08.17(21)申请号201810385431.2(22)申请日2018.04.26(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号(72)发明人赵德涛卢鹏程陈亮丛宁杨明刘冬妮肖丽杨盛际王磊玄明花陈小川(74)专利代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司11112代理人柴亮张天舒(51)Int.Cl.G06F3/041(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图5页(54)发明名称触控显示基板及其制备方法(57)摘要本发明提供一种触控显示基板及其制备方法，属于触控技术领域，其可解决现有的有机发光二极管显示基板的触控结构复杂、成本高，或触控盲区大的问题。本发明的触控显示基板的制备方法包括：在基底上形成多条触控线、绝缘层、多个第一电极，绝缘层覆盖触控线且对应每条触控线设有至少一个过孔，第一电极远离基底一侧无绝缘层；在过孔和待形成触控电极位置的间隔处形成挡墙；依次形成发光层和第二电极层；其中，挡墙处的发光层、第二电极层与无挡墙处的发光层、第二电极层断开，发光层和与其两侧接触的第一电极、第二电极层构成有机发光二极管；去除挡墙，剩余的第二电极层形成触控电极；在过孔处形成导电结构，以将每个触控电极与一条触控线电连接。CN108415614ACN108415614A权利要求书1/1页1.一种触控显示基板的制备方法，其特征在于，包括：在基底上形成多条触控线、绝缘层、多个第一电极，所述绝缘层覆盖触控线且对应每条触控线设有至少一个过孔，所述第一电极远离基底一侧无绝缘层；在过孔和待形成触控电极位置的间隔处形成挡墙；依次形成发光层和第二电极层；其中，挡墙处的发光层、第二电极层与无挡墙处的发光层、第二电极层断开，发光层和与其两侧接触的第一电极、第二电极层构成有机发光二极管；去除挡墙，剩余的第二电极层形成触控电极；在所述过孔处形成导电结构，以将每个触控电极与一条触控线电连接。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在过孔和待形成触控电极位置的间隔处形成挡墙包括：用光刻胶通过曝光、显影在过孔和待形成触控电极位置的间隔处形成挡墙。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述光刻胶为可光降解的光刻胶；所述去除挡墙包括：对挡墙进行光辐射，使其剥落。4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，在对挡墙进行光辐射的同时，还用惰性气体对挡墙进行风淋。5.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述可光降解的光刻胶包括：光刻胶基材；掺杂于所述光刻胶基材中的光降解催化剂。6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述光降解催化剂为二氧化钛。7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述挡墙的厚度大于或等于1000nm。8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述挡墙在垂直于其长度方向的截面中，上边的宽度大于底边的宽度。9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述在所述过孔处形成导电结构包括：在所述过孔处进行金属粉涂覆以形成导电结构。10.一种触控显示基板，其特征在于，包括：基底；设于基底一侧的多条触控线、绝缘层、多个第一电极，所述绝缘层覆盖触控线且对应每条触控线设有至少一个过孔，所述第一电极远离基底一侧无绝缘层；设于第一电极远离基底一侧的、多个间隔设置的触控电极，触控电极在对应绝缘层的过孔处也设有过孔；设于触控电极与第一电极间的发光层，所述发光层在基底上的投影与触控电极在基底上的投影重合，所述发光层和与其两侧接触的第一电极、第二电极层构成有机发光二极管；设于所述过孔中的导电结构，其将每个触控电极与一条触控线电连接。2CN108415614A说明书1/6页触控显示基板及其制备方法技术领域[0001]本发明属于触控技术领域，具体涉及一种触控显示基板。背景技术[0002]有源矩阵驱动有机发光二极管AMOLED(ActiveMatrixOrganicLightEmittingDiode)显示基板简称有机发光二极管(OLED)显示基板，其具有成本低、应答速度高、省电、工作温度范围大、易于实现柔性等优点，故获得了广泛应用。[0003]有机发光二极管(OLED)显示基板中，触控结构(如触控膜层)可设在用于封装有机发光二极管的封装结构(如封装层、封装膜等)上，即为外嵌式(MutiLayerOnCell)触控，但外嵌式触控结构复杂，成本高。[0004]若要在有机发光二极管显示基板中采用内嵌式(InCell)触控，则可将有机发光二极管中较远离基底的电极(如阴极)分为多块，每均分时复用为一个触控电极。显然，触控电极需要通过触控线与驱动芯片连接，但由于工艺限制，有机发光二极管的发光层只能是完整的