药液过滤器滤膜的制备方法及药液过滤器滤膜.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111135729A(43)申请公布日2020.05.12(21)申请号202010010091.2(22)申请日2020.01.06(71)申请人常州费曼生物科技有限公司地址213000江苏省常州市新北区华山路18号(72)发明人蒋开朱学林(74)专利代理机构常州兴瑞专利代理事务所(普通合伙)32308代理人肖兴坤(51)Int.Cl.B01D71/02(2006.01)B01D67/00(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图1页(54)发明名称药液过滤器滤膜的制备方法及药液过滤器滤膜(57)摘要本发明公开了一种药液过滤器滤膜的制备方法及药液过滤器滤膜，方法的步骤中包括：在单晶硅的底面进行湿法刻蚀开窗，使单晶硅的底面具有开窗盲孔；采用各向异性刻蚀液对开窗的单晶硅进行刻蚀，使单晶硅底面的盲孔成为底大顶小的锥盲孔；对单晶硅的顶面进行至少一次刻蚀，使锥盲孔的顶部刻蚀通，形成锥滤孔，并通过控制刻蚀深度来控制锥滤孔顶部孔径，当锥滤孔顶部孔径达到设定值时，停止刻蚀，得到药液过滤器滤膜。本发明利用材料和结构的自身刻蚀特性，以及孔的宽度和孔刻蚀深度之间的依赖关系，从而实现纳米滤孔的加工，简单方便。CN111135729ACN111135729A权利要求书1/1页1.一种药液过滤器滤膜的制备方法，其特征在于方法的步骤中包括：在单晶硅（10）的底面进行湿法刻蚀开窗，使单晶硅（10）的底面具有开窗盲孔；采用各向异性刻蚀液对开窗的单晶硅（10）进行刻蚀，使单晶硅（10）底面的开窗盲孔成为底大顶小的锥盲孔（101）；对单晶硅（10）的顶面进行至少一次刻蚀，使锥盲孔（101）的顶部刻蚀通，形成锥滤孔（13），并通过控制刻蚀深度来控制锥滤孔（13）顶部孔径，当锥滤孔（13）顶部孔径达到设定值时，停止刻蚀，得到药液过滤器滤膜。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在单晶硅（10）的底面进行湿法刻蚀开窗具体为：在单晶硅（10）的底面沉积抗刻蚀层；在单晶硅（10）的底面光刻出盲孔开窗图形；将单晶硅（10）上对应开窗盲孔的区域刻蚀掉，形成开窗的单晶硅（10）。3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述抗刻蚀层为氧化硅或氮化硅或金属Cr。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于方法的步骤中还包括：对得到的药液过滤器滤膜进行清洗。5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述单晶硅（10）为<110>晶向单晶硅或顶层为<110>晶向单晶硅的绝缘体上硅SOI晶圆。6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述各向异性刻蚀液为氢氧化钾或氢氧化钠或四甲基氢氧化铵。7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，对单晶硅（10）的顶面进行至少一次刻蚀的刻蚀方法包括离子束刻蚀、原子层刻蚀、反应离子刻蚀、XeF2气相刻蚀，湿法刻蚀中的至少一种。8.一种药液过滤器滤膜，其特征在于，它包括：膜本体（1），所述膜本体（1）具有底面（11）和顶面（12），所述膜本体（1）设有贯通的底大顶小的锥滤孔（13）。9.根据权利要求8所述的药液过滤器滤膜，其特征在于，所述锥滤孔（13）的小端孔径为2纳米~200纳米。10.一种药液过滤器滤膜，其特征在于，它由如权利要求1至7中任一项所述的制备方法制备得到。2CN111135729A说明书1/5页药液过滤器滤膜的制备方法及药液过滤器滤膜技术领域[0001]本发明涉及一种药液过滤器滤膜的制备方法及药液过滤器滤膜，属于医疗器械和医药生产中的颗粒、细菌和病毒过滤领域。背景技术[0002]目前，药液的生产、运输和使用过程中，需要严格控制药液的安全性。在使用环节，通过输液器进入静脉的药液，需要严格控制药液中的颗粒污染、以及可能的细菌等污染。例如，对于婴幼儿群体，由于血管发育尚未成熟，血管的直径较小，因此输液治疗过程中，一旦发生颗粒污染堵塞的现象，极有可能严重危及生命安全。国家标准GB8368（2005）中对重力式一次性使用输液器明确规定了过滤颗粒直径要求，现有医疗行业中的一次性输液过滤器均配了可以过滤直径25微米以上颗粒的过滤器。因此在一次性输液器中，需要配置过滤膜，对颗粒污染和可能的细菌污染进行过滤。[0003]目前越来越多的临床研究表明，有部分药物在输液中要求提高过滤器的精度，国际上已经有一些药物明确规定了微细颗粒的过滤要求，例如糖蛋白IIb/IIIa抑制剂药物阿昔单抗ReoPro、抗心律失常药物胺碘酮（可龙达）、抗肿瘤药物氯苯吩嗪（Clolar）、抗肿瘤药物紫杉醇（Taxol、Onxol）等要求过滤颗粒直径为0.2微米。[0004]目前随着滤膜技术和医药技术的发展，过滤颗粒的直径逐渐朝着更小的方向发展。例如，对于单克隆抗体药物而言，需要进行过