含氮化镓/氧化镓纳米柱阵列的自供电探测器及制备方法.pdf
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含氮化镓/氧化镓纳米柱阵列的自供电探测器及制备方法.pdf
本发明属于光电探测器的技术领域,具体涉及一种含氮化镓/氧化镓纳米柱阵列的自供电探测器及制备方法。所述探测器的结构为依次排布的电极、柔性衬底、p型氮化镓层、β‑氧化镓纳米柱阵列以及电极,所述填充层包裹β‑氧化镓纳米柱阵列的侧面,用于填充β‑氧化镓纳米柱阵列,所述β‑氧化镓纳米柱阵列以及电极之间还包括石墨烯透明电极。本发明以氮化镓/氧化镓纳米柱阵列组成的异质结为器件核心,在氮化镓薄膜上制备氧化镓纳米阵列,氧化镓与氮化镓之间的界面处存在小的晶格失配和低的导带偏移,可以进一步提供高光电探测器的性能,且无需外接电源
利用镍纳米岛掩膜制备氮化镓纳米柱的研究.docx
利用镍纳米岛掩膜制备氮化镓纳米柱的研究氮化镓纳米柱(GaNnanowires)作为一种新型的半导体材料,在光电子器件、能源转换等领域具有广泛的应用前景。制备高质量的氮化镓纳米柱是实现其应用的必要条件。目前,利用镍纳米岛掩膜进行制备氮化镓纳米柱的方法已被广泛研究。一、氮化镓纳米柱制备方法利用镍纳米岛掩膜制备氮化镓纳米柱的过程主要包括以下步骤:首先,在氮化铝薄膜表面的铝部分进行光刻和干法刻蚀,形成铝线模板;接着,在铝线模板上溅射一层适当厚度的镍薄膜,并用快速退火处理,形成镍纳米岛掩膜;然后,在镍纳米岛掩膜上通
基于氧化镓与氮化镓的集成式器件及其制备方法.pdf
本发明公开了一种基于氧化镓与氮化镓的集成式器件及其制备方法。所述集成式器件包括依次叠设在沟道层上的势垒层、第一缓冲层和日盲紫外功能层;所述势垒层表面的局部区域从第一缓冲层和日盲紫外功能层中暴露出;所述势垒层表面的局部区域上设置有第一电极、第二电极和第三电极,以配合形成功率电子器件单元;所述日盲紫外功能层上设置有第四电极和第五电极,以配合形成日盲紫外光电子器件单元。本发明提供的集成式器件,可实现氧化镓日盲紫外光电子器件与氮化镓功率电子器件芯片集成,不仅能够实现两种器件的单一功能,还能综合两者优势,适用于某些
纳米多孔氮化镓制备及氮化镓干法刻蚀损伤回复研究.docx
纳米多孔氮化镓制备及氮化镓干法刻蚀损伤回复研究摘要:本文介绍了纳米多孔氮化镓的制备及氮化镓干法刻蚀损伤回复的研究。通过氮化镓的制备和干法刻蚀技术的研究,可以获得高质量的氮化镓材料,并且可以回复表面上的损伤。本文中使用的制备方法包括液相法和气相法,干法刻蚀采用低功率的离子束。通过SEM、XRD、FTIR等测试技术对制备材料进行表征,结果显示氮化镓材料的质量较好,并且能够有效地回复干法刻蚀损伤。研究表明,纳米多孔氮化镓具有广泛的应用前景,可以被用作新的功能材料。关键词:纳米多孔氮化镓;制备;氮化镓干法刻蚀;损
利用镍纳米岛掩膜制备氮化镓纳米柱的研究的中期报告.docx
利用镍纳米岛掩膜制备氮化镓纳米柱的研究的中期报告本研究旨在利用镍纳米岛掩膜制备氮化镓纳米柱,以期实现氮化镓材料在光电器件领域的应用。目前,我们已完成了实验设计和样品制备工作,并进行了初步的表征和分析。1.实验设计本实验采用的是热压法制备氮化镓纳米柱,在制备过程中,我们采用了镍纳米岛掩膜技术,以期制备出具有高质量和优异性能的氮化镓纳米柱。具体实验步骤如下:1)制备掩膜:采用磁控溅射技术,在高纯度玻璃基底上制备出直径为50-100nm、间距为100-150nm的镍纳米岛掩膜。2)制备氮化镓纳米柱:将制备好的掩