光学系统及其制造过程.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112437891A(43)申请公布日2021.03.02(21)申请号201980048205.8(74)专利代理机构北京品源专利代理有限公司(22)申请日2019.07.1811332代理人谭营营胡彬(30)优先权数据18567092018.07.19FR(51)Int.Cl.G02B3/00(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日G02B5/20(2006.01)2021.01.19G06K9/00(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据H01L27/146(2006.01)PCT/EP2019/0694532019.07.18(87)PCT国际申请的公布数据WO2020/016391FR2020.01.23(71)申请人爱色乐居地址法国利摩日(72)发明人威尔弗里德·施瓦兹昆廷·沙布尔阿加特·普什卡本杰明·布蒂农权利要求书2页说明书11页附图6页(54)发明名称光学系统及其制造过程(57)摘要本描述涉及一种制造光学系统(5)的过程，该光学系统包括层(24)，该层包含通孔或盲孔(26)并被微米级光学元件矩阵阵列(14)覆盖。该光学系统包括旨在接收第一发射的表面(22)。此过程包括通过微米大小的光学元件矩阵阵列(14)使具有与该层相同的材料或不同的材料的膜(24)暴露于第二发射，所述材料对第二发射光敏感或能够使用第二发射加工，此方法还包括去除膜的暴露于或未暴露于第二发射的部分以界定全部或部分地穿过所述层的孔(26)。CN112437891ACN112437891A权利要求书1/2页1.一种制造光学系统(5)的方法，所述光学系统包括层(24)，所述层包含贯通的或部分贯通的孔(26)并被微米级光学元件阵列(14)覆盖，所述光学系统包括旨在接收第一辐射(42、54)的表面(22)，所述方法包括穿过所述微米级光学元件阵列(14)使具有与所述层相同的材料或不同的材料的膜(24)暴露于第二辐射(70)，所述材料对所述第二辐射光敏感或能够通过所述第二辐射加工，所述方法还包括去除所述膜的暴露于或未暴露于所述第二辐射的部分(72)以界定完全或部分地穿过所述层的孔(26)。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述膜(24)由对所述第二辐射(70)光敏感的抗蚀剂制成。3.根据权利要求2所述的方法，其中所述层(24)由对所述第二辐射正性光敏感的抗蚀剂制成，所述膜的去除部分(72)是暴露于所述第二辐射的部分。4.根据权利要求2所述的方法，其中所述膜(24)由对所述第二辐射负性光敏感的抗蚀剂制成，所述膜的去除部分(72)是未暴露于所述第二辐射的部分。5.根据权利要求1所述的方法，包括通过激光束加工所述层(24)。6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中所述光学系统(5)形成角度滤光器，所述角度滤光器被配置为阻挡相对于与所述表面(22)正交的方向的入射在至少一个第一入射范围内的所述第一辐射(42)的光线，以及允许相对于与所述表面正交的方向的入射在不同于所述至少一个第一入射范围的至少一个第二入射范围内的所述第一辐射的光线通过。7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述第一辐射(42、54)不同于所述第二辐射(70)。8.根据权利要求2至4中任一项所述的方法，其中所述第一辐射(42、54)在可见光范围内和/或在红外光范围内。9.根据权利要求2至4中任一项所述的方法，其中所述第二辐射(70)在可见光范围内和/或在紫外光范围内。10.根据权利要求1至9中任一项所述的方法，包括在所述曝光步骤中，使得所述微米级光学元件阵列(14)接触具有不同于所述微米级光学元件的折射率的、不同于空气的材料。11.根据权利要求1至10中任一项所述的方法，其中所述光学系统(5)的制造是卷对卷执行的。12.根据权利要求1至11中任一项所述的方法，包括：在形成所述孔(26)之后，用粘合材料填充所述孔，以及经由粘合材料将包括所述孔的所述层(24)固定到装置(44)上。13.根据权利要求1至12中任一项所述的方法，其中所述第二辐射(70)被准直。14.根据权利要求1至12中任一项所述的方法，其中所述第二辐射(70)具有大于1°的发散角。15.一种光学系统(5)，包括旨在接收第一辐射(42、54)的表面(22)、包含贯通的或部分贯通的孔(26)并被微米级光学元件阵列(14)覆盖的层(24)，所述层由一种材料制成或者所述孔用所述材料填充，所述材料对第二辐射(70)光敏感或能够通过所述第二辐射加工。16.根据权利要求15所述的光学系统，其中所述层(24)对所述第一辐射(42、54)不透明，所述系统被配置为阻挡相对于与所述表面(22)正交的方向的入射在至少一个第一入射范围内的所述第一辐射