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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112808670A(43)申请公布日2021.05.18(21)申请号202011627399.8(22)申请日2020.12.30(71)申请人上海至纯洁净系统科技股份有限公司地址200241上海市闵行区紫海路170号申请人至微半导体(上海)有限公司(72)发明人邓信甫毛明军刘大威吴海华(74)专利代理机构上海申新律师事务所31272代理人党蕾(51)Int.Cl.B08B3/02(2006.01)权利要求书2页说明书5页附图3页(54)发明名称一种具有自清洁功能的半导体清洗设备(57)摘要本发明公开了一种具有自清洁功能的半导体清洗设备,属于半导体技术领域,包括晶圆承载平台、第一升降机构、外罩、多个回收环、清洗液供应端和控制机构;外罩边沿设有第一喷嘴;回收环上倾斜设置有防溅板,防溅板上设有喷嘴模组,相邻防溅板之间形成腔室;控制机构根据清洗指令控制清洗液供应端提供清洗液,并控制第一升降机构升降以使第一喷嘴与其中一个防溅板持平,进而通过第一喷嘴清洗相应的腔室。本发明技术方案的有益效果在于:第一喷嘴能够对喷嘴模组喷射的盲区进行清洁,通过喷嘴模组和第一喷嘴进行双重清洁,通过第一喷嘴和第一升降机构进行分层清洁。CN112808670ACN112808670A权利要求书1/2页1.一种具有自清洁功能的半导体清洗设备,其特征在于,包括:一晶圆承载平台,用于放置晶圆;一第一升降机构,所述第一升降机构的升降端连接所述晶圆承载平台,所述第一升降机构用于带动所述晶圆承载平台做升降运动;一外罩,套设于所述第一升降机构的升降端,所述外罩的边沿设有第一喷嘴,所述第一喷嘴用于喷射清洗液;多个回收环,每个所述回收环的上方倾斜一预设角度设置有对应的防溅板,相邻的两个所述防溅板之间形成一腔室,且每个所述防溅板上分别设有一喷嘴模组;清洗液供应端,分别连接所有所述第一喷嘴、所有所述喷嘴模组,用于为所述第一喷嘴、所述喷嘴模组提供所述清洗液;一控制机构,分别连接所述第一升降机构和所述清洗液供应端,所述控制机构用于接收一清洗指令,并根据所述清洗指令控制所述清洗液供应端提供所述清洗液,并控制所述第一升降机构升降,以使所述第一喷嘴与其中一个所述防溅板持平,进而通过所述第一喷嘴清洗相应的所述腔室。2.根据权利要求1所述的具有自清洁功能的半导体清洗设备,其特征在于,相邻的两个所述防溅板之间分别设有一引流槽,每个所述引流槽的底端分别连接一引流管路,用于将相应的所述腔室中残留的液体排出。3.根据权利要求1所述的具有自清洁功能的半导体清洗设备,其特征在于,所述清洗液供应端为一纳米水分子发生器,所述纳米水分子发生器输入端连接一供水端,所述纳米水分子发生器用于产生纳米小分子水,并提供至所述第一喷嘴、所述喷嘴模组。4.根据权利要求3所述的具有自清洁功能的半导体清洗设备,其特征在于,所述纳米水分子发生器连接所述控制机构,所述纳米水分子发生器包括一超声波调节模块、一浓度比例调节模块、一压力调节模块和一温度调节模块,所述纳米水分子发生器用于接收一调节指令,并根据所述调节指令对所述供水端提供的纯水进行超声波、浓度比例、压力和温度调节。5.根据权利要求3所述的具有自清洁功能的半导体清洗设备,其特征在于,每个所述防溅板的内部分别嵌套有一第一微型导管;所述纳米水分子发生器配置有多个管路,每个所述管路分别连接相应的所述防溅板上的所述第一微型导管,所述纳米水分子发生器通过所述管路为相应的所述喷嘴模组提供所述纳米小分子水。6.根据权利要求3所述的具有自清洁功能的半导体清洗设备,其特征在于,所述外罩的内部嵌套有一第二微型导管,所述第二微型导管通过一伸缩导管连接所述纳米水分子发生器,所述纳米小分子水经所述伸缩导管、所述第二微型导管提供至每个所述第一喷嘴。7.根据权利要求1所述的具有自清洁功能的半导体清洗设备,其特征在于,每个所述防溅板的表面均设有一隔离环圈。8.根据权利要求1所述的具有自清洁功能的半导体清洗设备,其特征在于,所述回收环为5个,具体包括从上至下依次设置的第一回收环、第二回收环、第三回收环、第四回收环和第五回收环;所述第一回收环固定连接所述第四回收环。2CN112808670A权利要求书2/2页9.根据权利要求8所述的具有自清洁功能的半导体清洗设备,其特征在于,还包括一第二升降机构,所述第二升降机构连接所述第一回收环,所述第二升降机构用于带动所述第一回收环相对于所述第二回收环上下移动,所述第一回收环带动所述第四回收环移动,使得所述第四回收环相对于所述第三回收环和所述第五回收环上下移动。10.根据权利要求1所述的具有自清洁功能的半导体清洗设备,其特征在于,多个所述第一喷嘴沿所述外罩的边沿环向均匀设置,且每个所述第一喷嘴朝向所