硅片清洗机喷淋用水加热设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102723256A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102723256A(43)申请公布日2012.10.10(21)申请号201110079693.4(22)申请日2011.03.31(71)申请人江苏新潮光伏能源发展有限公司地址225600江苏省扬州市高邮市经济开发区凌波路55号(72)发明人姚兴平(74)专利代理机构南京苏高专利商标事务所(普通合伙)32204代理人徐激波(51)Int.Cl.H01L21/00(2006.01)F24H1/20(2006.01)B08B3/02(2006.01)权利要求书权利要求书1页1页说明书说明书11页页附图附图11页(54)发明名称硅片清洗机喷淋用水加热设备(57)摘要本发明公开了一种硅片清洗机喷淋用水加热设备，包括喷淋用水水箱和电加热管，所述喷淋用水水箱内设有电加热管；所述电加热管包括金属管、电阻丝和氧化镁粉，所述金属管内设置有电阻丝，金属管内空隙部分填充有氧化镁粉。通过使用本发明产品后，水温达到了工艺要求，保持在40℃左右，杜绝了多晶硅片脏片和花片现象，提高了产品的合格率，降低了生产成本。CN1027356ACN102723256A权利要求书1/1页1.一种硅片清洗机喷淋用水加热设备，其特征在于：包括喷淋用水水箱（1）和电加热管（2），所述喷淋用水水箱（1）内设有电加热管（2）；所述电加热管（2）包括金属管、电阻丝和氧化镁粉，所述金属管内设置有电阻丝，金属管内空隙部分填充有氧化镁粉。2CN102723256A说明书1/1页硅片清洗机喷淋用水加热设备技术领域[0001]本发明涉及一种多晶硅片生产设备，具体涉及一种硅片清洗机喷淋用水加热设备。背景技术[0002]硅片清洗机中使用的喷淋用水水温需保持在40℃，现有的硅片清洗机中没有加热设备，常因水温不足引起多晶硅片的脏片和花片现象，远远达不到生产工艺的要求。发明内容[0003]本发明的目的是为了克服现有技术的不足，提供一种硅片清洗机喷淋用水加热设备，解决了因水温不足所引起的多晶硅片的脏片和花片现象。[0004]本发明采用的技术方案是：一种硅片清洗机喷淋用水加热设备，包括喷淋用水水箱和电加热管，所述喷淋用水水箱内设有电加热管；所述电加热管包括金属管、电阻丝和氧化镁粉，所述金属管内设置有电阻丝，金属管内空隙部分填充有氧化镁粉。[0005]工作原理：本发明在耐高温不锈钢无缝管内均匀地分布高温电阻丝，在空隙部分致密地填入导热性能和绝缘性能均良好的结晶氧化镁粉，当高温电阻丝中有电流通过时，产生的热通过结晶氧化镁粉向金属管表面扩散，再传递到喷淋用水中去，达到加热的目的，再供硅片清洗机使用。[0006]有益效果：通过使用本发明产品后，水温达到了工艺要求，保持在40℃左右，杜绝了多晶硅片脏片和花片现象，提高了产品的合格率，降低了生产成本。附图说明[0007]附图为本发明的结构示意图。具体实施方式[0008]下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步说明：如附图所示：一种硅片清洗机喷淋用水加热设备，包括喷淋用水水箱1和电加热管2，所述喷淋用水水箱1内设有电加热管2；所述电加热管2包括金属管、电阻丝和氧化镁粉，所述金属管内设置有电阻丝，金属管内空隙部分填充有氧化镁粉。3CN102723256A说明书附图1/1页图14