基于LOD组织与调度方法的GIS模型优化方法及系统.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110276820A(43)申请公布日2019.09.24(21)申请号201910551662.0(22)申请日2019.06.24(71)申请人重庆梅安森科技股份有限公司地址400039重庆市九龙坡区二郎创业路105号高科创业园C2区6层(72)发明人刘航刘桥喜边帅王帅军杨伟良(74)专利代理机构北京海虹嘉诚知识产权代理有限公司11129代理人吕小琴(51)Int.Cl.G06T15/00(2011.01)G06T15/04(2011.01)G06T17/05(2011.01)权利要求书2页说明书7页(54)发明名称基于LOD组织与调度方法的GIS模型优化方法及系统(57)摘要本发明提供一种基于LOD组织与调度方法的GIS模型优化方法及系统，涉及数据处理技术领域，包括以下步骤：对目标数据进行预处理，生成基础的地形瓦片；根据初始视域，加载所述初始视域范围内符合显示条件的地形瓦片，同时根据初始LOD级别进行渲染；S3：判断当前视域是否发生变化，并根据新视域生成瓦片列表；将所述符合显示条件的瓦片数据发送给渲染器，进行渲染操作，通过四叉树和R树对海量模型数据进行瓦片划分，并通过模型合并、纹理贴图合并技术和纹理LOD技术达到降低内存和渲染批次的目的，提高系统的可视化性能。CN110276820ACN110276820A权利要求书1/2页1.一种基于LOD组织与调度方法的GIS模型优化方法，其特征在于：包括以下步骤：S1：对目标数据进行预处理，生成基础的地形瓦片；S2：根据初始视域，加载所述初始视域范围内符合显示条件的地形瓦片，同时根据LOD级别进行渲染；S3：判断当前视域是否发生变化，若是，根据显示条件，确定变更的瓦片列表，删除在新的视域范围内不符合显示条件的瓦片数据，同时加载在新的视域范围内符合显示条件的瓦片数据至缓存；若否，则仍然以当前瓦片的模型数据进行可视化显示；S4：将所述符合显示条件的瓦片数据发送给渲染器，进行渲染操作：S41：判断所有符合显示条件的叶节点瓦片是否进行0级渲染操作，若是，进入S42，若否，对符合显示条件的叶节点瓦片，进行LOD级别为0级渲染操作；S42：遍历所有叶节点瓦片，获取叶节点瓦片的位置信息，计算叶节点瓦片与相机的距离，查看所述距离是否在LOD级别为1级的距离范围内，若是，则将叶节点瓦片的LOD级别从0级上升为1级，并进行LOD级别为1级的渲染操作，从而提升叶节点瓦片的纹理清晰度，若否，则叶节点瓦片渲染保持LOD级别为0级；S43：遍历LOD级别为1级的叶节点瓦片内的模型数据，计算模型与相机的距离，根据所述距离计算模型的LOD级别，所述模型的LOD级别为目标LOD级别；S44：判断模型当前LOD级别是否小于所述目标LOD级别，若是则向数据引擎发起指定级别的数据请求，并以目标LOD级别的贴图显示，同时保留上一级别的渲染数据，若否，则删除当前LOD级别的渲染数据，切换至目标LOD级别的渲染数据。2.根据权利要求1所述基于LOD组织与调度方法的GIS模型优化方法，其特征在于：当所述LOD级别包括0级、1级和2级，其中，0级和1级时均以叶节点瓦片为渲染对象，2级以叶节点瓦片中的模型为渲染对象。3.根据权利要求1所述基于LOD组织与调度方法的GIS模型优化方法，其特征在于：所述对目标数据进行预处理包括：将叶节点瓦片内的小于等于预设阈值的纹理贴图采用贴图合并模糊算法进行合并。4.根据权利要求3所述基于LOD组织与调度方法的GIS模型优化方法，其特征在于：所述贴图合同模糊算法包括：a:创建一张预设阈值的矩形空白目标纹理；b:在2的整数次幂中选取小于但最接近贴图宽高的值作为贴图调整后的宽高的值并调整贴图大小；c:遍历叶节点瓦片内的所有贴图，依次从调整大小后的贴图中选取面积最大的贴图以从左到右，从上至下的顺序，放置在所述目标纹理中，并记录所述贴图的存放位置；d:如果在所述目标纹理贴图中的空白矩阵无法放下贴图，以目标纹理中面积最大的空白矩形的宽高为基准，调整贴图大小，并放入所述最大的空白矩形中；e:如所述目标纹理已被填满，则将所述目标纹理向下、向左各自自动扩充；f:重复步骤c、d和e，直至将所有贴图放入所述目标纹理中；g:查看所述目标纹理中的空白空间，并根据空白空间调整所述目标纹理大小，如果所述目标纹理的大小大于所述预设阈值的矩形大小时，则将所述目标纹理缩放至所述预设阈值的矩形大小；2CN110276820A权利要求书2/2页i:根据贴图在目标纹理中的位置，重新计算模型中顶点对应的不同级别的纹理坐标数据。5.根据权利要求3所述基于LOD组织与调度方法的GIS模型优化方法，其特征在于：所述预处理还包括：S11：确定初始零级瓦片大小；S12：根据四