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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102379231A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102379231A(43)申请公布日2012.03.21(21)申请号201110243532.4A01G13/02(2006.01)(22)申请日2011.08.24(71)申请人华南农业大学地址510642广东省广州市天河区五山路483号(72)发明人罗锡文曾山王在满臧英周志艳(74)专利代理机构广州市华学知识产权代理有限公司44245代理人裘晖(51)Int.Cl.A01G16/00(2006.01)A01B79/02(2006.01)A01C5/06(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图1页(54)发明名称一种同步开沟起垄施肥铺膜的水稻精量旱穴直播方法(57)摘要本发明公开了一种同步开沟起垄施肥铺膜的水稻精量旱穴直播方法,该方法包括以下步骤:在旋耕平整后的旱地上同时开两条平行的蓄水厢沟,两蓄水厢沟之间形成比蓄水沟高的宽垄台;在垄台上同步开出播种沟和施肥沟,施肥沟位于播种沟一侧;水稻芽种以穴播方式播在播种沟内;肥料施于肥料沟底,施肥后覆土盖平;播种后在垄台覆盖地膜,地膜四周覆土。本发明的播种方法有利于水稻根系的发育,解决了一般直播稻播在泥土表面根系入土浅易倒伏问题;同时省水、省肥、省工,提高了种子发芽率和成苗率,播种后覆膜提高了种子的抗寒能力,解决了现有旱直播方法稻苗根系分布浅,易倒伏,易伤种,肥料利用率低,播种后种子抗寒能力差等缺陷。CN102379ACCNN110237923102379242A权利要求书1/1页1.一种同步开沟起垄施肥铺膜的水稻精量旱穴直播方法,其特征在于包括以下步骤:(1)在旋耕平整后的旱地上同时开两条平行的蓄水厢沟,两蓄水厢沟之间形成比蓄水厢沟高的垄台;播种后保持蓄水厢沟内有水;(2)在垄台上同步开出播种沟和施肥沟,施肥沟位于播种沟一侧;(3)水稻芽种以穴播方式播在播种沟内;(4)肥料施于肥料沟底,施肥后覆土盖平;(5)播种后在垄台覆盖地膜,地膜四周覆土。2.根据权利要求1所述的同步开沟起垄施肥铺膜的水稻精量旱穴直播方法,其特征在于:步骤(1)所述蓄水厢沟的横截面呈上宽下窄的梯形。3.根据权利要求1所述的同步开沟起垄施肥铺膜的水稻精量旱穴直播方法,其特征在于:步骤(1)所述蓄水厢沟的开沟器为犁铧式,步骤(2)所述施肥沟的开沟器为箭铲式,步骤(2)所述播种沟的开沟器为压轮式。2CCNN110237923102379242A说明书1/3页一种同步开沟起垄施肥铺膜的水稻精量旱穴直播方法技术领域[0001]本发明属于农业种植领域,具体涉及一种水稻播种方法,特别涉及一种同步开沟起垄施肥铺膜的水稻精量旱穴直播方法。背景技术[0002]我国耕地面积占全球的9%,但施肥量却占全球总量的30%以上,成为世界第一化肥消费大国,化肥已占中国农民全部农用物资费用的50%左右。由于施肥方法不当,我国的肥料利用率很低,平均有效利用率不到30%。[0003]在水稻生产中,水田施肥仍主要依靠人工或机械撒施于地表,存在施肥不均匀、肥料在地表易随水流失或挥发到空气中等问题,使作物在生长期肥料不均衡而影响生长。化肥用量的增加,对人类生存的环境带来了严重的不良影响。过多施用化肥还会造成倒伏、后期贪青、加重病虫害发生和稻米品质变劣等危险。[0004]水稻旱直播是是一种节水、省工、高产高效的水稻轻简栽培技术。由于旱直播较水直播更节水、省工、省力,因而近年来旱直播的面积在不断扩大。现有的旱直播播种技术主要有人工撒播和机械条播,存在以下问题:1、人工撒播和机械条播均不同程度地存在稻苗根系分布浅,易造成中期群体偏大,苗体素质变差,抗倒伏性较差;2、机械条播用种量大,且播种水稻芽种易伤种;3、肥料撒施于地表,易随水流失或挥发到空气中,降低肥料的利用率,影响作物生长,加重对环境的污染;4、旱直播播种后若遇低温(田面地温平均在10℃以下)会严重影响稻种的出芽,制约了旱直播技术在低温地区的应用。发明内容[0005]为了克服现有技术的缺点与不足,本发明的目的在于提供一种节水、节肥、利于水稻根系发育、且在低温地区也能应用的同步开沟起垄施肥铺膜的水稻精量旱穴直播方法。[0006]本发明的目的通过下述技术方案实现:[0007]一种同步开沟起垄施肥铺膜的水稻精量旱穴直播方法,包括以下步骤:[0008](1)在旋耕平整后的旱地上同时开两条平行的蓄水厢沟,两蓄水厢沟之间形成比蓄水厢沟高的垄台;播种后保持蓄水厢沟内有水;[0009](2)在垄台上同步开出播种沟和施肥沟,施肥沟位于播种沟一侧,按农艺要求与播种沟保持合理间距;[0010](3)水稻芽种以穴播方式按一定间距播在播种沟内;[0011](4)肥料施于肥料沟底,施肥后覆土盖平;[0012](5)播种