一种旱地马铃薯全膜覆盖垄上微沟种植方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112136587A(43)申请公布日2020.12.29(21)申请号202011165270.XA01B79/02(2006.01)(22)申请日2020.10.27C05F15/00(2006.01)C05G1/00(2006.01)(71)申请人甘肃省农业科学院旱地农业研究所地址730070甘肃省兰州市安宁区农科院新村1号旱农所(72)发明人张绪成侯慧芝于显枫方彦杰马一凡王红丽雷康宁张国平尹嘉德(74)专利代理机构成都弘毅天承知识产权代理有限公司51230代理人孟仕杰(51)Int.Cl.A01G13/02(2006.01)A01C21/00(2006.01)A01C1/00(2006.01)权利要求书2页说明书6页(54)发明名称一种旱地马铃薯全膜覆盖垄上微沟种植方法(57)摘要本发明公开了一种旱地马铃薯全膜覆盖垄上微沟种植方法，涉及旱地马铃薯种植技术领域，用以解决目前旱作区马铃薯种植存在的种植地前期准备欠缺、限制马铃薯生长的现象，导致的马铃薯产量低下、品质较差的技术问题，本发明一种旱地马铃薯全膜覆盖垄上微沟种植方法包括种植地准备、种植地施肥、起垄、覆膜、种子准备、播种和收获。本发明在马铃薯种植过程中，在起好的大垄顶部表面开设10cm～15cm的小沟，不同于普通的全膜覆盖垄沟种植，10cm～15cm的小沟可以有效防止大垄顶部的雨水流失，增加雨水入渗率，同时在天气干旱的时候，减少大垄水分的蒸发流失，适于保持水分，且可以降低病害，促进马铃薯生产。CN112136587ACN112136587A权利要求书1/2页1.一种旱地马铃薯全膜覆盖垄上微沟种植方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一、种植地准备：选择土质疏松、通透性好、地势平坦，有机质含量11.0％～16.0％的地块作种植地，将种植地前茬作物收获后及时深耕灭茬，并在种植马铃薯前一周浅耕耙耱，得到预处理种植地；步骤二、种植地施肥：在步骤一中的预处理种植地表面按照1042kg/亩～1548.3kg/亩均匀撒上组合肥料，并分成宽度为100cm的种植行，备用；步骤三、起垄：将步骤二中的种植行按照宽60cm、高20cm的规格起好大垄，每个大垄间距40cm，并在每个大垄的顶部表面开设宽10cm～15cm、深10cm的小沟，得到起垄完成的种植地；步骤四、覆膜：在步骤三中起垄完成的种植地进行覆膜，具体是将厚度为0.008mm～0.01mm、宽度为120cm的黑色地膜全地面覆盖，并将黑色地膜接缝置于每个大垄的间距内，接缝处用细土覆盖，黑色地膜与大垄的垄面贴紧，顺着大垄每隔2m～3m横压一条土腰带，覆盖黑色地膜一周后，黑色地膜与大垄的垄面紧贴，再分别在每个大垄顶部的小沟和大垄的间距内每隔50cm打1个播种孔，备用；步骤五、种子准备：选择陇薯10号，将陇薯10号切成30g～50g的薯块，每个薯块选留1个～2个芽眼，播种的前一天，在每准备好的100kg薯块表面喷洒质量比为0.05：100的40％的农用硫酸链霉素可溶性粉剂和水的混合液，然后将混合液中的水分晾干，得到预处理薯块；步骤六、播种：在4月15日～5月10日，气温平均温度为5℃～7℃、地表10cm处的地温为7℃～8℃的条件下，将步骤五中得到的预处理薯块进行播种，具体播种为，在每个大垄的垄顶先用点播器打开第一个步骤四中得到的播种孔，将播种孔中的土提出，向播种孔内点种，然后打开第二个播种孔，并将第二个播种孔中的土提出放入第一个播种孔口，以此类推，每个播种孔点种步骤五中得到的预处理薯块1块，点种的深度为3cm～5cm，每个播种孔覆土后匀力踩压；步骤七、收获：按照步骤六的播种方法完成播种后，经田间管理、病虫草害防治、收获得到成品马铃薯，并清除废膜。2.根据权利要求1所述的旱地马铃薯全膜覆盖垄上微沟种植方法，其特征在于，步骤一中，所述深耕灭茬的耕深为25.5cm～29.5cm。3.根据权利要求1所述的旱地马铃薯全膜覆盖垄上微沟种植方法，其特征在于，步骤一中，所述浅耕的耕深为5.5cm～10.5cm。4.根据权利要求1所述的旱地马铃薯全膜覆盖垄上微沟种植方法，其特征在于，步骤二中，所述组合化肥中有机肥、尿素、过磷酸钙和钾肥的质量比为15～25：0.18：0.18：0.02。5.根据权利要求4所述的旱地马铃薯全膜覆盖垄上微沟种植方法，其特征在于，所述有机肥的制备过程为：在质量比为1：0.3的羊粪和牛粪中按质量比17～30：100加入草炭、花生壳粉和秸秆粉混合制成含水量为60％～62％的基肥，然后将基肥转入搅拌机中，并按质量比0.06：30～50加入有机肥发酵菌液，以300转/分钟～400转/分钟的速率正转搅拌10min～15min、然后反转搅拌10min～15min、然后将